HFCVD0606

Kamar lapisan vakum saka peralatan deposisi uap kimia nganggo struktur pendinginan banyu lapisan ganda, sing efisien lan seragam ing pendinginan, lan duwe struktur sing aman lan stabil.Peralatan kasebut dirancang kanthi lawang dobel, macem-macem jendhela pengamatan lan macem-macem antarmuka ekspansi, sing trep kanggo sambungan eksternal periferal tambahan kayata pangukuran suhu inframerah, analisis spektral, pemantauan video lan thermocouple.Konsep desain majeng ndadekake mrikso saben dina lan pangopènan, pangowahan konfigurasi lan upgrade saka peralatan gampang lan prasaja, lan èfèktif nyuda nggunakake lan upgrade biaya.

Fitur peralatan:

1.Komponèn inflasi saka peralatan utamané kalebu meter aliran massa, tutup solenoid lan tank nyawiji gas, kang njamin kontrol akurat saka aliran gas proses, nyawiji seragam lan isolasi aman saka gas beda, lan bisa milih komponen sistem gas kanggo nggunakake sumber gas Cairan, nggampangake pilihan pribadi saka sawetara saka sudhut sumber karbon Cairan, lan nggunakake aman saka berlian konduktif tiron lan sumber boron Cairan elektroda.
2. Déwan ekstraksi udara dilengkapi pompa vakum puteran sing bisu lan efisien lan sistem pompa molekul turbo sing bisa kanthi cepet ketemu lingkungan latar mburi vakum sing dhuwur.Pengukur vakum komposit kanthi pengukur resistensi lan pengukur ionisasi digunakake kanggo pangukuran vakum, uga sistem pengukur film kapasitif sing bisa ngukur tekanan gas proses sing beda ing macem-macem.Tekanan deposisi dikontrol kanthi otomatis kanthi katup kontrol proporsional kanthi tliti dhuwur.
3.Komponèn banyu cooling dilengkapi tekanan banyu multi-saluran, aliran, pangukuran suhu lan piranti lunak ngawasi otomatis.Komponen pendinginan sing beda-beda gumantung saka siji liyane, sing trep kanggo diagnosa kesalahan kanthi cepet.Kabeh cabang duwe switch katup independen, sing aman lan efisien.
4.Komponèn kontrol electrical nganggo layar LCD antarmuka manungsa-mesin gedhe-ukuran lan kerjo bareng karo PLC kontrol full-otomatis kanggo nggampangake editing lan ngimpor rumus proses.Kurva grafis kanthi visual nampilake owah-owahan lan nilai saka macem-macem paramèter, lan paramèter peralatan lan proses kanthi otomatis direkam lan diarsipaké kanggo nggampangake nelusuri masalah lan analisis statistik data.
5. Rak workpiece dilengkapi motor servo kanggo ngontrol ngangkat lan ngedhunake meja substrat.Tabel substrat grafit utawa tembaga abang bisa dipilih.Suhu diukur nganggo thermocouple.
6.Komponen rak bisa dirancang kanthi wutuh utawa kanthi kapisah miturut syarat pelanggan kanggo nyukupi syarat penanganan khusus pelanggan.
7.Komponèn plate sealing ayu lan elegan.Piring sealing ing area modul fungsional sing beda-beda saka peralatan kasebut bisa dibongkar kanthi cepet utawa dibukak lan ditutup kanthi mandiri, sing trep banget kanggo digunakake.

Peralatan CVD filamen panas cocok kanggo nyetop bahan berlian, kalebu lapisan film tipis, film kandel sing ndhukung mandiri, berlian microcrystalline lan nanocrystalline, berlian konduktif, lan liya-liyane. kayata silikon lan silikon karbida, lapisan boros panas piranti, elektroda berlian konduktif boron doped, disinfeksi ozon banyu elektrolitik utawa perawatan limbah.