ვაკუუმ-იონური დაფარვა (მოკლედ იონური დამუშავება) არის ზედაპირის დამუშავების ახალი ტექნოლოგია, რომელიც სწრაფად განვითარდა 1970-იან წლებში, რომელიც შემოთავაზებული იქნა DM Mattox-ის მიერ Somdia Company-დან შეერთებულ შტატებში 1963 წელს. ეს ეხება აორთქლების წყაროს ან აორთქლების გამოყენების პროცესს. მიზნად ისახავს ფილმის მასალის აორთქლებას ან გამოწურვას ვაკუუმურ ატმოსფეროში.
პირველი არის ლითონის ორთქლის გამომუშავება ფილმის მასალის გაცხელებით და აორთქლებით, რომელიც ნაწილობრივ იონიზდება ლითონის ორთქლში და მაღალენერგიულ ნეიტრალურ ატომებად გაზის გამონადენი პლაზმის სივრცეში და აღწევს სუბსტრატს და ქმნის ფირის ელექტრული ველის მოქმედებით. ;ეს უკანასკნელი იყენებს მაღალი ენერგიის იონებს (მაგალითად, Ar+) დაბომბავს ფირის მასალის ზედაპირს ისე, რომ გაჟღენთილი ნაწილაკები იონიზირებულია იონებად ან მაღალენერგეტიკული ნეიტრალურ ატომებად გაზის გამონადენის სივრცეში და გააცნობიეროს სუბსტრატის ზედაპირი. ფილმის შესაქმნელად.
ეს სტატია გამოქვეყნებულია Guangdong Zhenhua-ს მიერ, მწარმოებელივაკუუმური საფარის მოწყობილობა
გამოქვეყნების დრო: მარ-10-2023