მაგნიტრონის დაფრქვევისა და კათოდური მრავალრკალიანი იონური საფარის კომპოზიტური ტექნოლოგია

მაგნიტრონის დაფქვისა და კათოდური მრავალრკალიანი იონური საფარის კომპოზიტური საფარის მოწყობილობას შეუძლია ცალ-ცალკე და ერთდროულად იმუშაოს;შესაძლებელია დეპონირება და მომზადება სუფთა ლითონის ფირის, ლითონის ნაერთი ფირის ან კომპოზიტური ფილმის;შეიძლება იყოს ფილმის ერთი ფენა და მრავალშრიანი კომპოზიციური ფილმი.

მისი უპირატესობები შემდეგია:
ის არა მხოლოდ აერთიანებს სხვადასხვა იონური საფარის უპირატესობებს და ითვალისწინებს თხელი ფირის მომზადებას და დეპონირებას გამოყენების სხვადასხვა სფეროსთვის, არამედ იძლევა მრავალშრიანი მონოლითური ან მრავალშრიანი კომპოზიციური ფილმების დეპონირებას და მომზადებას იმავე ვაკუუმში. საფარის პალატა ერთ დროს.
დეპონირებული ფირის ფენების გამოყენება ფართოდ გამოიყენება მისი ტექნოლოგიები სხვადასხვა ფორმით, ტიპიურია შემდეგი:
(1) არათანაბარი მაგნიტრონის დაფქვისა და კათოდური იონის დაფარვის ტექნოლოგიის ნაერთი.
მისი მოწყობილობა ნაჩვენებია შემდეგნაირად.ეს არის სვეტოვანი მაგნეტრონული სამიზნისა და პლანშეტური კათოდური რკალის იონების საფარის მოწყობილობა, რომელიც შესაფერისია როგორც ხელსაწყოების დაფარვის რთული ფირის, ასევე დეკორატიული ფირის საფარისთვის.ხელსაწყოს დაფარვისთვის, კათოდური რკალის იონის საფარი გამოიყენება ჯერ საბაზისო ფენის საფარისთვის, შემდეგ კი სვეტის მაგნიტრონის სამიზნე გამოიყენება ნიტრიდის და სხვა ფირის ფენების დეპონირებისთვის, მაღალი სიზუსტის დამუშავების ხელსაწყოს ზედაპირის ფირის მისაღებად.
დეკორატიული საფარისთვის, TiN და ZrN დეკორატიული ფირები შეიძლება დატანილი იქნას ჯერ კათოდური რკალის საფარით, შემდეგ კი მეტალთან დოპინგი მაგნიტრონის სამიზნეების გამოყენებით და დოპინგ ეფექტი ძალიან კარგია.

(2) ტყუპი სიბრტყის მაგნეტრონისა და სვეტის კათოდური რკალის იონის საფარის ტექნიკის ნაერთი.მოწყობილობა ნაჩვენებია შემდეგნაირად.იგი გამოიყენება მოწინავე ორმაგი სამიზნე ტექნოლოგია, როდესაც ორი გვერდიგვერდ ტყუპი სამიზნე უკავშირდება საშუალო სიხშირის ელექტრომომარაგებას, ის არა მხოლოდ გადალახავს სამიზნე მოწამვლას DC sputtering, ცეცხლი და სხვა ნაკლოვანებები;და შეუძლია შეიტანოს Al203, SiO2 ოქსიდის ხარისხის ფილმი, ისე, რომ დაფარული ნაწილების დაჟანგვის წინააღმდეგობა გაიზარდა და გაუმჯობესდა.სვეტოვანი მრავალრკალიანი სამიზნე, რომელიც დამონტაჟებულია ვაკუუმური კამერის ცენტრში, სამიზნე მასალა შეიძლება გამოყენებულ იქნას Ti და Zr, არა მხოლოდ უპირატესობების შესანარჩუნებლად მაღალი მრავალრკალიანი დისოციაციის სიჩქარის, დეპონირების სიჩქარის შესანარჩუნებლად, არამედ შეუძლია ეფექტურად შეამციროს "წვეთები" მცირე სიბრტყის მრავალრკალიანი სამიზნე დეპონირების პროცესს, შეუძლია მოამზადოს და მოამზადოს ლითონის ფილმების დაბალი ფორიანობა, რთული ფირები.თუ Al და Si გამოიყენება როგორც სამიზნე მასალა პერიფერიაზე დაყენებული ორმაგი პლანური მაგნიტრონის სამიზნეებისთვის, Al203 ან Si0 მეტალოკერამიკული ფირები შეიძლება დეპონირებული და მომზადდეს.გარდა ამისა, პერიფერიაზე შეიძლება დამონტაჟდეს მრავალრკალიანი აორთქლების წყაროს რამდენიმე პატარა თვითმფრინავი და მისი სამიზნე მასალა შეიძლება იყოს Cr ან Ni, ხოლო ლითონის ფირები და მრავალშრიანი კომპოზიტური ფილმები შეიძლება დეპონირებული და მომზადდეს.აქედან გამომდინარე, ეს კომპოზიციური საფარის ტექნოლოგია არის კომპოზიტური საფარის ტექნოლოგია მრავალი აპლიკაციით.