ᲞᲠᲝᲓᲣᲥᲢᲘᲡ ᲐᲦᲬᲔᲠᲐ
მოწყობილობა აერთიანებს მაგნიტრონის დაფქვისა და იონური საფარის ტექნოლოგიას, რაც უზრუნველყოფს გამოსავალს ფერის კონსისტენციის, დეპონირების სიჩქარისა და ნაერთის შემადგენლობის სტაბილურობის გასაუმჯობესებლად.პროდუქტის სხვადასხვა მოთხოვნების მიხედვით შეიძლება შეირჩეს გათბობის სისტემა, მიკერძოებული სისტემა, იონიზაციის სისტემა და სხვა მოწყობილობები.სამიზნე პოზიციის განაწილება შეიძლება მოქნილად იყოს მორგებული და ფილმის ერთგვაროვნება უფრო მაღალია.სხვადასხვა სამიზნეებით, უკეთესი შესრულებით კომპოზიციური ფილმების დაფარვა შესაძლებელია.აღჭურვილობის მიერ მომზადებულ საფარს აქვს ძლიერი წებოვნების და მაღალი კომპაქტურობის უპირატესობები, რომელსაც შეუძლია ეფექტურად გააუმჯობესოს მარილის სპრეის წინააღმდეგობა, აცვიათ წინააღმდეგობა და პროდუქტის ზედაპირის სიმტკიცე და დააკმაყოფილოს მაღალი ხარისხის საფარის მომზადების მოთხოვნები.
აღჭურვილობის გამოყენება შესაძლებელია უჟანგავი ფოლადი, ელექტრომოოქროვილი აპარატურა/პლასტმასის ნაწილები, მინა, კერამიკა და სხვა მასალები.მას შეუძლია მოამზადოს TiN / TiCN / TiC / TiO2 / TiAlN / CrN / ZrN / CrC და სხვა ლითონის ნაერთი ფირები.მას შეუძლია მიაღწიოს მუქ შავ ფერს, ღუმელის ოქროს, ვარდის ოქროს, იმიტაცია ოქროს, ცირკონიუმის ოქროს, საფირონის ცისფერს, კაშკაშა ვერცხლის და სხვა ფერებს.
აღჭურვილობის ეს სერია ძირითადად გამოიყენება ელექტრონული პროდუქტების ტექნიკისთვის, მაღალი კლასის საათებისა და საათებისთვის, მაღალი კლასის სამკაულებისთვის, ძვირადღირებული ბრენდის ბარგის ტექნიკისთვის და ა.შ.
არჩევითი მოდელები
| ZCL0608 | ZCL1009 | ZCL1112 | ZCL1312 |
| Φ600*H800(მმ) | φ1000*H900(მმ) | φ1100*H1250(მმ) | φ1300*H1250(მმ) |
| ZCL1612 | ZCL1912 | ZCL1914 | ZCL1422 |
| φ1600*H1250(მმ) | φ1900*H1250(მმ) | φ1900*H1400(მმ) | φ1400*H2200(მმ) |
INDUSTRY APPLICATION
ნათესავი მოწყობილობები
დააწკაპუნეთ View
Sputter საფარი აღჭურვილობა ბორბლების კერა
მოწყობილობა აერთიანებს მაგნიტრონის დაფრქვევისა და იონური საფარის ტექნოლოგიას და უზრუნველყოფს გამოსავალს ფერის კონსისტენციის, დეპონირების სიჩქარისა და ნაერთის სტაბილურობის გასაუმჯობესებლად.
ინტეგრირებული მაგნიტური კონტროლი + აორთქლების საფარი...
მოწყობილობა აერთიანებს მაგნიტრონის დაფრქვევისა და წინააღმდეგობის აორთქლების ტექნოლოგიას და უზრუნველყოფს გამოსავალს სხვადასხვა სუბსტრატების დასაფარად.ექსპერიმენტი...
ექსპერიმენტული sputtering საფარი აღჭურვილობა
მოწყობილობა აერთიანებს მაგნიტრონის დაფრქვევისა და იონური საფარის ტექნოლოგიას და უზრუნველყოფს გამოსავალს ფერის კონსისტენციის, დეპონირების სიჩქარისა და ნაერთის სტაბილურობის გასაუმჯობესებლად.
სპეციალური მრავალფუნქციური საფარის მოწყობილობა თ...
თითის ანაბეჭდის საწინააღმდეგო ფართომასშტაბიანი დაფარვის მოწყობილობა მაღალი კლასის სანიტარული მოწყობილობებისთვის აღჭურვილია კათოდური რკალის იონური საფარის სისტემით, საშუალო სიხშირის მაგნიტრონის დაფრქვევის საფარით...
მაგნიტრონის საფარის მოწყობილობა მობილური ტელეფონებისთვის ჰა...
მოწყობილობა აერთიანებს მაგნიტრონის დაფრქვევისა და იონური საფარის ტექნოლოგიას.პროდუქტის სხვადასხვა მოთხოვნების მიხედვით, გათბობის სისტემა, მიკერძოებული სისტემა, იონიზაციის სისტემა და ო...
ვერტიკალური ორმაგი კარის მრავალფუნქციური საფარი ეკვ...
მოწყობილობა არის ვერტიკალური ორმაგი კარის სტრუქტურა.ეს არის კომპოზიტური მოწყობილობა, რომელიც აერთიანებს მუდმივი მაგნიტრონის დაფარვის ტექნოლოგიას, წინააღმდეგობის აორთქლების საფარის ტექნოლოგიას...
თითის ანაბეჭდის საწინააღმდეგო დიდი ლითონის მოწყობილობა
ფართომასშტაბიანი ლითონის თითის ანაბეჭდის საფარის მოწყობილობა აღჭურვილია კათოდური რკალის იონური საფარის სისტემით, საშუალო სიხშირის მაგნიტრონის დაფრქვევის დაფარვის სისტემით და ფარების საწინააღმდეგო...
სპეციალური მაგნიტრონის საფარის მოწყობილობა მაღალი გრ...
საფარის ეს მოწყობილობა აერთიანებს მაგნიტრონის დაფქვისა და იონური საფარის ტექნოლოგიას, რაც უზრუნველყოფს გამოსავალს ფერის კონსისტენციის, დეპონირების სიჩქარისა და სტაბილურობის გასაუმჯობესებლად.