Әдетте CVD реакциялары жоғары температураға сүйенеді, сондықтан термиялық қоздырылған химиялық бу тұндыру (TCVD) деп аталады.Ол әдетте бейорганикалық прекурсорларды пайдаланады және ыстық және суық қабырғалы реакторларда орындалады.Оның қыздыру әдістеріне радиожиілікпен (РЖ) қыздыру, инфрақызыл сәулемен қыздыру, қарсылықпен қыздыру және т.б.
Ыстық қабырғадағы химиялық булардың тұндыру
Шын мәнінде, ыстық қабырғалы химиялық бу тұндыру реакторы үзіліспен өндіруге арналған әдетте резистивті элементтермен қыздырылатын термостатикалық пеш болып табылады.Жоңқаларды қаптауға арналған ыстық қабырғалы химиялық буларды тұндыру өндірісінің сызбасы төмендегідей көрсетілген.Бұл ыстық қабырғаға химиялық бу тұндыру TiN, TiC, TiCN және басқа жұқа қабықшаларды жабуы мүмкін.Реактор жеткілікті үлкен етіп жобалануы мүмкін, содан кейін көптеген компоненттерді ұстайды және тұндыру үшін шарттарды өте дәл басқаруға болады.1-суретте жартылай өткізгіш құрылғы өндірісінің кремнийді қоспалауға арналған эпитаксиалды қабат құрылғысы көрсетілген.Тұндыру бетінің бөлшектермен ластануын азайту және өндіріс жүктемесін айтарлықтай арттыру үшін пештегі субстрат тік бағытта орналастырылады.Жартылай өткізгішті өндіруге арналған ыстық қабырғалы реакторлар әдетте төмен қысымда жұмыс істейді.
Жіберу уақыты: 08 қараша 2022 ж