ಹಾರ್ಡ್ ಕೋಟಿಂಗ್‌ಗಳನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲು ಸಾಂಪ್ರದಾಯಿಕ ತಂತ್ರಗಳ ಪರಿಚಯ

1. ಥರ್ಮಲ್ CVD ತಂತ್ರಜ್ಞಾನ

ಗಟ್ಟಿಯಾದ ಲೇಪನಗಳು ಹೆಚ್ಚಾಗಿ ಲೋಹದ ಸೆರಾಮಿಕ್ ಲೇಪನಗಳಾಗಿವೆ (TiN, ಇತ್ಯಾದಿ), ಇದು ಲೇಪನ ಮತ್ತು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯಾತ್ಮಕ ಅನಿಲೀಕರಣದಲ್ಲಿ ಲೋಹದ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯಿಂದ ರೂಪುಗೊಳ್ಳುತ್ತದೆ.ಮೊದಲಿಗೆ, 1000 ℃ ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಉಷ್ಣ ಶಕ್ತಿಯಿಂದ ಸಂಯೋಜನೆಯ ಕ್ರಿಯೆಯ ಸಕ್ರಿಯಗೊಳಿಸುವ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಒದಗಿಸಲು ಥರ್ಮಲ್ CVD ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಬಳಸಲಾಯಿತು.ಈ ತಾಪಮಾನವು ಸಿಮೆಂಟೆಡ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ ಉಪಕರಣಗಳ ಮೇಲೆ TiN ಮತ್ತು ಇತರ ಹಾರ್ಡ್ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲು ಮಾತ್ರ ಸೂಕ್ತವಾಗಿದೆ.ಇಲ್ಲಿಯವರೆಗೆ, ಸಿಮೆಂಟೆಡ್ ಕಾರ್ಬೈಡ್ ಟೂಲ್ ಹೆಡ್‌ಗಳ ಮೇಲೆ TiN-Al20 ಸಂಯೋಜಿತ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡುವುದು ಇನ್ನೂ ಪ್ರಮುಖ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವಾಗಿದೆ.

2. ಟೊಳ್ಳಾದ ಕ್ಯಾಥೋಡ್ ಅಯಾನ್ ಲೇಪನ ಮತ್ತು ಬಿಸಿ ತಂತಿ ಆರ್ಕ್ ಅಯಾನ್ ಲೇಪನ

1980 ರ ದಶಕದಲ್ಲಿ, ಟೊಳ್ಳಾದ ಕ್ಯಾಥೋಡ್ ಅಯಾನ್ ಲೇಪನ ಮತ್ತು ಬಿಸಿ ತಂತಿ ಆರ್ಕ್ ಅಯಾನ್ ಲೇಪನವನ್ನು ಲೇಪಿತ ಕತ್ತರಿಸುವ ಉಪಕರಣಗಳನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲು ಬಳಸಲಾಯಿತು.ಈ ಎರಡೂ ಅಯಾನು ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳು ಆರ್ಕ್ ಡಿಸ್ಚಾರ್ಜ್ ಅಯಾನ್ ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳಾಗಿವೆ, ಲೋಹದ ಅಯಾನೀಕರಣ ದರವು 20% ~ 40% ವರೆಗೆ ಇರುತ್ತದೆ.

3. ಕ್ಯಾಥೋಡ್ ಆರ್ಕ್ ಅಯಾನ್ ಲೇಪನ

ಕ್ಯಾಥೋಡಿಕ್ ಆರ್ಕ್ ಅಯಾನ್ ಲೇಪನದ ಹೊರಹೊಮ್ಮುವಿಕೆಯು ಅಚ್ಚುಗಳ ಮೇಲೆ ಗಟ್ಟಿಯಾದ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡುವ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಅಭಿವೃದ್ಧಿಗೆ ಕಾರಣವಾಗಿದೆ.ಕ್ಯಾಥೋಡಿಕ್ ಆರ್ಕ್ ಅಯಾನ್ ಲೇಪನದ ಅಯಾನೀಕರಣ ದರವು 60%~90% ಆಗಿದೆ, ಇದು ಹೆಚ್ಚಿನ ಸಂಖ್ಯೆಯ ಲೋಹದ ಅಯಾನುಗಳು ಮತ್ತು ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಅನಿಲ ಅಯಾನುಗಳು ವರ್ಕ್‌ಪೀಸ್‌ನ ಮೇಲ್ಮೈಯನ್ನು ತಲುಪಲು ಮತ್ತು ಇನ್ನೂ ಹೆಚ್ಚಿನ ಚಟುವಟಿಕೆಯನ್ನು ನಿರ್ವಹಿಸಲು ಅನುವು ಮಾಡಿಕೊಡುತ್ತದೆ, ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಶೇಖರಣೆ ಮತ್ತು ಹಾರ್ಡ್ ಲೇಪನಗಳ ರಚನೆಯಾಗುತ್ತದೆ. TiN.ಪ್ರಸ್ತುತ, ಕ್ಯಾಥೋಡಿಕ್ ಆರ್ಕ್ ಐಯಾನ್ ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನವನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಅಚ್ಚುಗಳ ಮೇಲೆ ಗಟ್ಟಿಯಾದ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ.

ಕ್ಯಾಥೋಡ್ ಆರ್ಕ್ ಮೂಲವು ಸ್ಥಿರವಾದ ಕರಗಿದ ಪೂಲ್ ಇಲ್ಲದೆ ಘನ-ಸ್ಥಿತಿಯ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲವಾಗಿದೆ, ಮತ್ತು ಆರ್ಕ್ ಮೂಲದ ಸ್ಥಾನವನ್ನು ನಿರಂಕುಶವಾಗಿ ಇರಿಸಬಹುದು, ಲೇಪನ ಕೊಠಡಿಯ ಸ್ಥಳಾವಕಾಶದ ಬಳಕೆಯ ದರವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಕುಲುಮೆಯ ಲೋಡಿಂಗ್ ಸಾಮರ್ಥ್ಯವನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ.ಕ್ಯಾಥೋಡ್ ಆರ್ಕ್ ಮೂಲಗಳ ಆಕಾರಗಳಲ್ಲಿ ಸಣ್ಣ ವೃತ್ತಾಕಾರದ ಕ್ಯಾಥೋಡ್ ಆರ್ಕ್ ಮೂಲಗಳು, ಸ್ತಂಭಾಕಾರದ ಆರ್ಕ್ ಮೂಲಗಳು ಮತ್ತು ಆಯತಾಕಾರದ ಫ್ಲಾಟ್ ದೊಡ್ಡ ಆರ್ಕ್ ಮೂಲಗಳು ಸೇರಿವೆ.ಸಣ್ಣ ಆರ್ಕ್ ಮೂಲಗಳು, ಸ್ತಂಭಾಕಾರದ ಆರ್ಕ್ ಮೂಲಗಳು ಮತ್ತು ದೊಡ್ಡ ಆರ್ಕ್ ಮೂಲಗಳ ವಿವಿಧ ಘಟಕಗಳನ್ನು ಬಹು-ಪದರದ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ನ್ಯಾನೊ ಮಲ್ಟಿಲೇಯರ್ ಫಿಲ್ಮ್‌ಗಳನ್ನು ಠೇವಣಿ ಮಾಡಲು ಪ್ರತ್ಯೇಕವಾಗಿ ಜೋಡಿಸಬಹುದು.ಏತನ್ಮಧ್ಯೆ, ಕ್ಯಾಥೋಡಿಕ್ ಆರ್ಕ್ ಅಯಾನು ಲೇಪನದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಲೋಹದ ಅಯಾನೀಕರಣದ ದರದಿಂದಾಗಿ, ಲೋಹದ ಅಯಾನುಗಳು ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆ ಅನಿಲಗಳನ್ನು ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುತ್ತವೆ, ಇದರ ಪರಿಣಾಮವಾಗಿ ವ್ಯಾಪಕ ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಶ್ರೇಣಿ ಮತ್ತು ಅತ್ಯುತ್ತಮವಾದ ಗಟ್ಟಿಯಾದ ಲೇಪನಗಳನ್ನು ಪಡೆಯಲು ಸರಳ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆ.ಆದಾಗ್ಯೂ, ಕ್ಯಾಥೋಡಿಕ್ ಆರ್ಕ್ ಅಯಾನ್ ಲೇಪನದಿಂದ ಪಡೆದ ಲೇಪನ ಪದರದ ಸೂಕ್ಷ್ಮ ರಚನೆಯಲ್ಲಿ ಒರಟಾದ ಹನಿಗಳು ಇವೆ.ಇತ್ತೀಚಿನ ವರ್ಷಗಳಲ್ಲಿ, ಫಿಲ್ಮ್ ಲೇಯರ್ನ ರಚನೆಯನ್ನು ಪರಿಷ್ಕರಿಸಲು ಅನೇಕ ಹೊಸ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನಗಳು ಹೊರಹೊಮ್ಮಿವೆ, ಇದು ಆರ್ಕ್ ಅಯಾನ್ ಲೇಪನ ಫಿಲ್ಮ್ನ ಗುಣಮಟ್ಟವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಿದೆ.

——ಈ ಲೇಖನವನ್ನು ಗುವಾಂಗ್‌ಡಾಂಗ್ ಝೆನ್‌ಹುವಾ ಟೆಕ್ನಾಲಜಿ ಬಿಡುಗಡೆ ಮಾಡಿದೆ, aಆಪ್ಟಿಕಲ್ ಲೇಪನ ಯಂತ್ರಗಳ ತಯಾರಕ.