ಉತ್ಪನ್ನ ವಿವರಣೆ
ಉಪಕರಣವು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಆಕ್ಸೈಡ್ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ತಯಾರಿಸಲು ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆಯನ್ನು ಅಳವಡಿಸಿಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ, ಇದು ವೇಗದ ಶೇಖರಣೆ ದರ ಮತ್ತು ಹೆಚ್ಚಿನ ಫಿಲ್ಮ್ ಗುಣಮಟ್ಟದ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.ಸಲಕರಣೆಗಳ ರಚನೆಗೆ ಸಂಬಂಧಿಸಿದಂತೆ, ಕ್ಲ್ಯಾಂಪ್ ಮಾಡುವ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ಡಬಲ್ ಡೋರ್ ರಚನೆಯನ್ನು ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರ ಮತ್ತು ನಿಯಂತ್ರಿಸಬಹುದಾದ ಹರಿವನ್ನು ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲು ಮತ್ತು ಪ್ರಕ್ರಿಯೆಯ ಸ್ಥಿರತೆಯನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ಖಚಿತಪಡಿಸಿಕೊಳ್ಳಲು ಇತ್ತೀಚಿನ ದ್ರವ ಅನಿಲ ಪೂರೈಕೆ ವ್ಯವಸ್ಥೆಯನ್ನು ಅಳವಡಿಸಲಾಗಿದೆ.ಉಪಕರಣದಿಂದ ತಯಾರಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಉತ್ತಮ ನೀರಿನ ಆವಿ ತಡೆಗೋಡೆ ಮತ್ತು ಕುದಿಯುವ ಪರೀಕ್ಷೆಯಲ್ಲಿ ದೀರ್ಘ ಸ್ಥಿರ ಅವಧಿಯನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.
ಉಪಕರಣವನ್ನು ಸ್ಟೇನ್‌ಲೆಸ್ ಸ್ಟೀಲ್, ಎಲೆಕ್ಟ್ರೋಪ್ಲೇಟೆಡ್ ಹಾರ್ಡ್‌ವೇರ್ / ಪ್ಲಾಸ್ಟಿಕ್ ಭಾಗಗಳು, ಗಾಜು, ಪಿಂಗಾಣಿ ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನಿಕ್ ಉತ್ಪನ್ನಗಳು, ಎಲ್ಇಡಿ ಲೈಟ್ ಮಣಿಗಳು, ವೈದ್ಯಕೀಯ ಸರಬರಾಜುಗಳು ಮತ್ತು ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣ ನಿರೋಧಕ ಅಗತ್ಯವಿರುವ ಇತರ ಉತ್ಪನ್ನಗಳಂತಹ ಇತರ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಅನ್ವಯಿಸಬಹುದು.SiOx ತಡೆಗೋಡೆ ಫಿಲ್ಮ್ ಅನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ನೀರಿನ ಆವಿಯನ್ನು ಪರಿಣಾಮಕಾರಿಯಾಗಿ ನಿರ್ಬಂಧಿಸಲು, ತುಕ್ಕು ಮತ್ತು ಆಕ್ಸಿಡೀಕರಣವನ್ನು ತಡೆಗಟ್ಟಲು ಮತ್ತು ಉತ್ಪನ್ನದ ಜೀವನವನ್ನು ಸುಧಾರಿಸಲು ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.
| ಐಚ್ಛಿಕ ಮಾದರಿಗಳು | ಒಳ ಕೋಣೆಯ ಗಾತ್ರ |
| ZHCVD1200 | φ1200*H1950(ಮಿಮೀ) |
ಇಂಡಸ್ಟ್ರಿ ಅಪ್ಲಿಕೇಶನ್
ಸಂಬಂಧಿತ ಸಾಧನಗಳು
ವೀಕ್ಷಿಸಿ ಕ್ಲಿಕ್ ಮಾಡಿ
ಹಾಟ್ ಫಿಲಮೆಂಟ್ CVD ಉಪಕರಣ
ರಾಸಾಯನಿಕ ಆವಿ ಶೇಖರಣೆಯ ಉಪಕರಣದ ನಿರ್ವಾತ ಲೇಪನ ಕೊಠಡಿಯು ಸ್ವತಂತ್ರ ಡಬಲ್-ಲೇಯರ್ ವಾಟರ್-ಕೂಲಿಂಗ್ ರಚನೆಯನ್ನು ಅಳವಡಿಸಿಕೊಂಡಿದೆ, ಇದು ತಂಪಾಗಿಸುವಿಕೆಯಲ್ಲಿ ಪರಿಣಾಮಕಾರಿ ಮತ್ತು ಏಕರೂಪವಾಗಿದೆ ...