ನಿರ್ವಾತ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ಲೇಪನ ತಂತ್ರಜ್ಞಾನದ ಪರಿಚಯ

2, ಬಾಷ್ಪೀಕರಣ ತಾಪನ

(1) ಪ್ರತಿರೋಧ ತಾಪನ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ
ಪ್ರತಿರೋಧ ತಾಪನ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯು ಸರಳವಾದ ಮತ್ತು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಳಸುವ ತಾಪನ ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ, ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 1500℃ ಗಿಂತ ಕಡಿಮೆ ಕರಗುವ ಬಿಂದು ಹೊಂದಿರುವ ಲೇಪನ ವಸ್ತುಗಳಿಗೆ ಅನ್ವಯಿಸುತ್ತದೆ, ತಂತಿ ಅಥವಾ ಹಾಳೆಯ ಆಕಾರದಲ್ಲಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಕರಗುವ ಬಿಂದು ಲೋಹಗಳು (W, Mo, Ti, Ta, ಬೋರಾನ್ ನೈಟ್ರೈಡ್, ಇತ್ಯಾದಿ.) ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಬಾಷ್ಪೀಕರಣದ ವಸ್ತುಗಳಿಂದ ಲೋಡ್ ಮಾಡಲಾದ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲಕ್ಕೆ ಸೂಕ್ತವಾದ ಆಕಾರವನ್ನು ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಲೋಹಲೇಪನ ವಸ್ತುವನ್ನು ಕರಗಿಸಲು, ಆವಿಯಾಗಿಸಲು ಅಥವಾ ಉತ್ಕೃಷ್ಟಗೊಳಿಸಲು ವಿದ್ಯುತ್ ಪ್ರವಾಹದ ಜೌಲ್ ಶಾಖದ ಮೂಲಕ, ಬಾಷ್ಪೀಕರಣ ಮೂಲದ ಆಕಾರವು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಬಹು-ತಂತಿಯ ಸುರುಳಿ, ಯು-ಆಕಾರದ, ಸೈನ್ ತರಂಗವನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ. , ತೆಳುವಾದ ಪ್ಲೇಟ್, ದೋಣಿ, ಕೋನ್ ಬುಟ್ಟಿ, ಇತ್ಯಾದಿ. ಅದೇ ಸಮಯದಲ್ಲಿ, ವಿಧಾನಕ್ಕೆ ಹೆಚ್ಚಿನ ಕರಗುವ ಬಿಂದು, ಕಡಿಮೆ ಶುದ್ಧತ್ವ ಆವಿಯ ಒತ್ತಡ, ಸ್ಥಿರ ರಾಸಾಯನಿಕ ಗುಣಲಕ್ಷಣಗಳು, ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಲೇಪನ ವಸ್ತುಗಳೊಂದಿಗೆ ರಾಸಾಯನಿಕ ಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ಹೊಂದಿರದಿರುವ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲ ವಸ್ತುವಿನ ಅಗತ್ಯವಿರುತ್ತದೆ. ಉತ್ತಮ ಶಾಖ ನಿರೋಧಕತೆ, ವಿದ್ಯುತ್ ಸಾಂದ್ರತೆಯಲ್ಲಿನ ಸಣ್ಣ ಬದಲಾವಣೆ, ಇತ್ಯಾದಿ. ಇದು ನೇರ ತಾಪನದ ಮೂಲಕ ಫಿಲ್ಮ್ ವಸ್ತುವನ್ನು ಬಿಸಿ ಮಾಡಲು ಮತ್ತು ಆವಿಯಾಗಿಸಲು ಅಥವಾ ಫಿಲ್ಮ್ ವಸ್ತುವನ್ನು ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಮತ್ತು ಕೆಲವು ಹೆಚ್ಚಿನ ತಾಪಮಾನ ನಿರೋಧಕ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗೆ ಹಾಕಲು ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲದ ಮೂಲಕ ಹೆಚ್ಚಿನ ಪ್ರವಾಹವನ್ನು ಅಳವಡಿಸಿಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ. ಲೋಹದ ಆಕ್ಸೈಡ್‌ಗಳು (ಉದಾಹರಣೆಗೆ A202, B0) ಮತ್ತು ಆವಿಯಾಗಲು ಪರೋಕ್ಷ ತಾಪನಕ್ಕಾಗಿ ಇತರ ವಸ್ತುಗಳು.
ಪ್ರತಿರೋಧ ತಾಪನ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ಲೇಪನವು ಮಿತಿಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ: ವಕ್ರೀಕಾರಕ ಲೋಹಗಳು ಕಡಿಮೆ ಆವಿಯ ಒತ್ತಡವನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತವೆ, ಇದು ತೆಳುವಾದ ಫಿಲ್ಮ್ ಮಾಡಲು ಕಷ್ಟವಾಗುತ್ತದೆ;ತಾಪನ ತಂತಿಯೊಂದಿಗೆ ಮಿಶ್ರಲೋಹವನ್ನು ರೂಪಿಸಲು ಕೆಲವು ಅಂಶಗಳು ಸುಲಭ;ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಫಿಲ್ಮ್ನ ಏಕರೂಪದ ಸಂಯೋಜನೆಯನ್ನು ಪಡೆಯುವುದು ಸುಲಭವಲ್ಲ.ಸರಳವಾದ ರಚನೆ, ಕಡಿಮೆ ಬೆಲೆ ಮತ್ತು ಪ್ರತಿರೋಧ ತಾಪನ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ವಿಧಾನದ ಸುಲಭ ಕಾರ್ಯಾಚರಣೆಯ ಕಾರಣ, ಇದು ಬಾಷ್ಪೀಕರಣ ವಿಧಾನದ ಅತ್ಯಂತ ಸಾಮಾನ್ಯವಾದ ಅನ್ವಯವಾಗಿದೆ.

(2) ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಕಿರಣದ ತಾಪನ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ
ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಕಿರಣದ ಬಾಷ್ಪೀಕರಣವು ನೀರು-ತಂಪಾಗುವ ತಾಮ್ರದ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ನಲ್ಲಿ ಇರಿಸುವ ಮೂಲಕ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯ ಸಾಂದ್ರತೆಯ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಕಿರಣದಿಂದ ಬಾಂಬ್ ಸ್ಫೋಟಿಸುವ ಮೂಲಕ ಲೇಪನ ವಸ್ತುವನ್ನು ಆವಿಯಾಗುವ ವಿಧಾನವಾಗಿದೆ.ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲವು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಹೊರಸೂಸುವಿಕೆ ಮೂಲ, ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ವೇಗವರ್ಧಕ ಶಕ್ತಿ ಮೂಲ, ಕ್ರೂಸಿಬಲ್ (ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ತಾಮ್ರದ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್) , ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಸುರುಳಿ ಮತ್ತು ತಂಪಾಗಿಸುವ ನೀರಿನ ಸೆಟ್, ಇತ್ಯಾದಿಗಳನ್ನು ಒಳಗೊಂಡಿರುತ್ತದೆ. ಈ ಸಾಧನದಲ್ಲಿ, ಬಿಸಿಯಾದ ವಸ್ತುವನ್ನು ನೀರಿನಲ್ಲಿ ಇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. -ಕೂಲ್ಡ್ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್, ಮತ್ತು ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಕಿರಣವು ವಸ್ತುವಿನ ಒಂದು ಸಣ್ಣ ಭಾಗವನ್ನು ಮಾತ್ರ ಸ್ಫೋಟಿಸುತ್ತದೆ, ಆದರೆ ಉಳಿದ ಹೆಚ್ಚಿನ ವಸ್ತುವು ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ನ ತಂಪಾಗಿಸುವ ಪರಿಣಾಮದ ಅಡಿಯಲ್ಲಿ ಅತ್ಯಂತ ಕಡಿಮೆ ತಾಪಮಾನದಲ್ಲಿ ಉಳಿಯುತ್ತದೆ, ಇದನ್ನು ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ನ ಬಾಂಬ್ ದಾಳಿಯ ಭಾಗವೆಂದು ಪರಿಗಣಿಸಬಹುದು.ಹೀಗಾಗಿ, ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಗಾಗಿ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಕಿರಣವನ್ನು ಬಿಸಿ ಮಾಡುವ ವಿಧಾನವು ಲೇಪನ ವಸ್ತು ಮತ್ತು ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲ ವಸ್ತುಗಳ ನಡುವಿನ ಮಾಲಿನ್ಯವನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಬಹುದು.
ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಕಿರಣದ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲದ ರಚನೆಯನ್ನು ಮೂರು ವಿಧಗಳಾಗಿ ವಿಂಗಡಿಸಬಹುದು: ನೇರ ಬಂದೂಕುಗಳು (ಬೌಲ್ಸ್ ಗನ್), ರಿಂಗ್ ಗನ್ (ವಿದ್ಯುತ್ ವಿಚಲಿತ) ಮತ್ತು ಇ-ಗನ್ (ಕಾಂತೀಯವಾಗಿ ವಿಚಲಿತ) .ಒಂದು ಅಥವಾ ಹೆಚ್ಚಿನ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ಗಳನ್ನು ಬಾಷ್ಪೀಕರಣ ಸೌಲಭ್ಯದಲ್ಲಿ ಇರಿಸಬಹುದು, ಇದು ಏಕಕಾಲದಲ್ಲಿ ಅಥವಾ ಪ್ರತ್ಯೇಕವಾಗಿ ಅನೇಕ ವಿಭಿನ್ನ ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಆವಿಯಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಠೇವಣಿ ಮಾಡಬಹುದು.

ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಕಿರಣದ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲಗಳು ಈ ಕೆಳಗಿನ ಅನುಕೂಲಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿವೆ.
①ಇಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಕಿರಣದ ಬಾಂಬ್ ಸ್ಫೋಟದ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲದ ಹೆಚ್ಚಿನ ಕಿರಣದ ಸಾಂದ್ರತೆಯು ಪ್ರತಿರೋಧದ ತಾಪನ ಮೂಲಕ್ಕಿಂತ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶಕ್ತಿಯ ಸಾಂದ್ರತೆಯನ್ನು ಪಡೆಯಬಹುದು, ಇದು W, Mo, Al2O3, ಇತ್ಯಾದಿಗಳಂತಹ ಹೆಚ್ಚಿನ ಕರಗುವ ಬಿಂದು ವಸ್ತುಗಳನ್ನು ಆವಿಯಾಗುತ್ತದೆ.
②ಲೇಪನದ ವಸ್ತುವನ್ನು ನೀರಿನಿಂದ ತಂಪಾಗುವ ತಾಮ್ರದ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್‌ನಲ್ಲಿ ಇರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಇದು ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲ ವಸ್ತುವಿನ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ ಮತ್ತು ಅವುಗಳ ನಡುವಿನ ಪ್ರತಿಕ್ರಿಯೆಯನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಬಹುದು.
③ ಶಾಖವನ್ನು ನೇರವಾಗಿ ಲೇಪನ ವಸ್ತುಗಳ ಮೇಲ್ಮೈಗೆ ಸೇರಿಸಬಹುದು, ಇದು ಉಷ್ಣ ದಕ್ಷತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚು ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಶಾಖದ ವಹನ ಮತ್ತು ಶಾಖ ವಿಕಿರಣದ ನಷ್ಟವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ.
ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಕಿರಣದ ತಾಪನ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ವಿಧಾನದ ಅನನುಕೂಲವೆಂದರೆ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್ ಗನ್‌ನಿಂದ ಪ್ರಾಥಮಿಕ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್‌ಗಳು ಮತ್ತು ಲೇಪನ ವಸ್ತುವಿನ ಮೇಲ್ಮೈಯಿಂದ ದ್ವಿತೀಯ ಎಲೆಕ್ಟ್ರಾನ್‌ಗಳು ಆವಿಯಾಗುವ ಪರಮಾಣುಗಳು ಮತ್ತು ಉಳಿದಿರುವ ಅನಿಲ ಅಣುಗಳನ್ನು ಅಯಾನೀಕರಿಸುತ್ತವೆ, ಇದು ಕೆಲವೊಮ್ಮೆ ಚಿತ್ರದ ಗುಣಮಟ್ಟವನ್ನು ಪರಿಣಾಮ ಬೀರುತ್ತದೆ.

(3) ಅಧಿಕ ಆವರ್ತನ ಇಂಡಕ್ಷನ್ ತಾಪನ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆ
ಹೈ-ಫ್ರೀಕ್ವೆನ್ಸಿ ಇಂಡಕ್ಷನ್ ತಾಪನ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯು ಹೆಚ್ಚಿನ ಆವರ್ತನದ ಸುರುಳಿಯಾಕಾರದ ಸುರುಳಿಯ ಮಧ್ಯದಲ್ಲಿ ಲೇಪನ ವಸ್ತುಗಳೊಂದಿಗೆ ಕ್ರೂಸಿಬಲ್ ಅನ್ನು ಇರಿಸುತ್ತದೆ, ಇದರಿಂದಾಗಿ ಲೇಪನ ವಸ್ತುವು ಹೆಚ್ಚಿನ ಆವರ್ತನದ ವಿದ್ಯುತ್ಕಾಂತೀಯ ಕ್ಷೇತ್ರದ ಪ್ರಚೋದನೆಯ ಅಡಿಯಲ್ಲಿ ಪ್ರಬಲವಾದ ಎಡ್ಡಿ ಪ್ರವಾಹ ಮತ್ತು ಹಿಸ್ಟರೆಸಿಸ್ ಪರಿಣಾಮವನ್ನು ಉಂಟುಮಾಡುತ್ತದೆ. ಫಿಲ್ಮ್ ಪದರವು ಆವಿಯಾಗುವವರೆಗೆ ಮತ್ತು ಆವಿಯಾಗುವವರೆಗೆ ಬಿಸಿಯಾಗುತ್ತದೆ.ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ನೀರು-ತಂಪಾಗುವ ಅಧಿಕ-ಆವರ್ತನ ಸುರುಳಿ ಮತ್ತು ಗ್ರ್ಯಾಫೈಟ್ ಅಥವಾ ಸೆರಾಮಿಕ್ (ಮೆಗ್ನೀಸಿಯಮ್ ಆಕ್ಸೈಡ್, ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಆಕ್ಸೈಡ್, ಬೋರಾನ್ ಆಕ್ಸೈಡ್, ಇತ್ಯಾದಿ) ಕ್ರೂಸಿಬಲ್ ಅನ್ನು ಹೊಂದಿರುತ್ತದೆ.ಹೆಚ್ಚಿನ ಆವರ್ತನದ ವಿದ್ಯುತ್ ಸರಬರಾಜು ಹತ್ತು ಸಾವಿರದಿಂದ ಹಲವಾರು ನೂರು ಸಾವಿರ ಹರ್ಟ್ಝ್ಗಳ ಆವರ್ತನವನ್ನು ಬಳಸುತ್ತದೆ, ಇನ್ಪುಟ್ ಪವರ್ ಹಲವಾರು ನೂರು ಕಿಲೋವ್ಯಾಟ್ಗಳು, ಮೆಂಬರೇನ್ ವಸ್ತುಗಳ ಸಣ್ಣ ಪರಿಮಾಣ, ಹೆಚ್ಚಿನ ಇಂಡಕ್ಷನ್ ಆವರ್ತನ.ಇಂಡಕ್ಷನ್ ಕಾಯಿಲ್ ಆವರ್ತನವನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ನೀರಿನಿಂದ ತಂಪಾಗುವ ತಾಮ್ರದ ಕೊಳವೆಯಿಂದ ತಯಾರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ.
ಹೆಚ್ಚಿನ ಆವರ್ತನದ ಇಂಡಕ್ಷನ್ ತಾಪನ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ವಿಧಾನದ ಅನನುಕೂಲವೆಂದರೆ ಇನ್ಪುಟ್ ಪವರ್ ಅನ್ನು ಸರಿಹೊಂದಿಸುವುದು ಸುಲಭವಲ್ಲ, ಇದು ಕೆಳಗಿನ ಪ್ರಯೋಜನಗಳನ್ನು ಹೊಂದಿದೆ.
①ಹೆಚ್ಚಿನ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಪ್ರಮಾಣ
②ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲದ ಉಷ್ಣತೆಯು ಏಕರೂಪ ಮತ್ತು ಸ್ಥಿರವಾಗಿರುತ್ತದೆ, ಆದ್ದರಿಂದ ಲೇಪನದ ಹನಿಗಳು ಸ್ಪ್ಲಾಶ್ ವಿದ್ಯಮಾನವನ್ನು ಉತ್ಪಾದಿಸುವುದು ಸುಲಭವಲ್ಲ, ಮತ್ತು ಇದು ಠೇವಣಿ ಮಾಡಿದ ಫಿಲ್ಮ್ನಲ್ಲಿ ಪಿನ್ಹೋಲ್ಗಳ ವಿದ್ಯಮಾನವನ್ನು ತಪ್ಪಿಸಬಹುದು.
③ ಆವಿಯಾಗುವಿಕೆಯ ಮೂಲವನ್ನು ಒಮ್ಮೆ ಲೋಡ್ ಮಾಡಲಾಗುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ತಾಪಮಾನವು ತುಲನಾತ್ಮಕವಾಗಿ ಸುಲಭ ಮತ್ತು ನಿಯಂತ್ರಿಸಲು ಸರಳವಾಗಿದೆ.