마그네트론 스퍼터링 원리: 전자는 전기장의 작용하에 기판으로 가속되는 과정에서 아르곤 원자와 충돌하여 많은 수의 아르곤 이온과 전자를 이온화하고 전자는 기판으로 날아갑니다.아르곤 이온은 전계의 작용 하에서 대상 물질을 폭격하기 위해 가속되어 많은 수의 대상 원자를 튀기고, 이는 필름을 형성하기 위해 기판에 중성 대상 원자(또는 분자)로 증착됩니다.2차 전자가 자기장의 로렌츠 힘의 영향으로 가속되어 기판으로 날아갈 때 나선형과 사이클로이드 복합 형태를 나타내어 대상 표면에서 일련의 원형 운동을 합니다.전자는 긴 운동경로를 가질 뿐만 아니라 많은 양의 Ar이 이온화되어 타겟에 충돌하는 전자기장 이론 빔에 의해 타겟 표면 근처의 플라즈마 영역에 여전히 존재하므로 마그네트론의 증착 속도가 스퍼터링 코팅 장치가 높습니다.
따라서,마그네트론 스퍼터링 코팅 장비마그네트론 스퍼터링과 이온 코팅 기술을 통합하고 색상 일관성을 향상시키는 솔루션을 제공하는 개발되었습니다. 침착 속도 및 화합물 조성의 안정성.다양한 제품 요구 사항에 따라 가열 시스템, 바이어스 시스템, 이온화 시스템 및 기타 장치를 선택할 수 있습니다.목표 분포를 유연하게 조정할 수 있으며 필름 균일성이 우수합니다.다른 대상 재료로 더 나은 성능을 가진 복합 필름을 준비할 수 있습니다.장비에 의해 준비된 코팅은 강력한 합성력과 치밀함의 장점을 가지고 있어 제품의 염수 분무 저항성, 내마모성 및 표면 경도를 효과적으로 향상시키고 고성능 코팅 준비 요구 사항을 충족할 수 있습니다.
이 장비는 적용 가능한 재료가 풍부하여 스테인리스 스틸 물도금 하드웨어/플라스틱 부품, 유리, 세라믹 및 기타 재료에 사용할 수 있습니다.주로 전자 제품의 하드웨어, 고급 시계 및 시계, 고급 보석 및 브랜드 가죽 제품의 하드웨어 및 기타 풍부한 제품에 사용됩니다.
게시 시간: 2023년 2월 7일