1. 포격 세정 기재
1.1) 스퍼터링 코팅기는 글로우 방전을 사용하여 기판을 청소합니다.즉, 챔버에 아르곤 가스를 충전하고 방전 전압은 약 1000V이며 전원 공급 장치를 켠 후 글로우 방전이 발생하고 기판은 아르곤 이온 충격에 의해 세정됩니다.
1.2) 공업적으로 고급 장신구를 생산하는 스퍼터링 코팅기에서는 작은 아크 발생원에서 방출되는 티타늄 이온이 대부분 세척용으로 사용된다.스퍼터링 코팅 기계에는 작은 아크 소스가 장착되어 있으며 작은 아크 소스 방전에 의해 생성된 아크 플라즈마의 티타늄 이온 스트림은 기판을 폭격하고 청소하는 데 사용됩니다.
2. 질화티타늄 코팅
티타늄 질화물 박막을 증착할 때 스퍼터링을 위한 타겟 물질은 티타늄 타겟이다.타겟 재료는 스퍼터링 전원 공급 장치의 음극에 연결되며 타겟 전압은 400 ~ 500V입니다.아르곤 플럭스는 고정되고 제어 진공은 (3~8) x10-1아빠.기판은 100~200V의 전압으로 바이어스 전원 공급 장치의 음극에 연결됩니다.
스퍼터링 티타늄 타겟의 전원 공급 장치를 켠 후 글로우 방전이 발생하고 고에너지 아르곤 이온이 스퍼터링 타겟에 충돌하여 타겟에서 티타늄 원자를 스퍼터링합니다.
반응 가스 질소가 도입되고 티타늄 원자와 질소가 코팅 챔버에서 티타늄 이온과 질소 이온으로 이온화됩니다.기판에 인가된 네거티브 바이어스 전계의 인력 하에서, 티타늄 이온 및 질소 이온은 화학 반응 및 증착을 위해 기판 표면으로 가속하여 질화 티타늄 필름층을 형성한다.
3. 기판을 꺼냅니다.
미리 결정된 필름 두께에 도달한 후 스퍼터링 전원 공급 장치, 기판 바이어스 전원 공급 장치 및 공기 공급원을 끕니다.기판 온도가 120℃ 이하가 된 후 코팅 챔버에 공기를 채우고 기판을 꺼냅니다.
이 기사는마그네트론 스퍼터링 코팅기 제조업체– 광동 젠화.
게시 시간: 2023년 4월 7일