이온 코팅기계 1960년대 DM Mattox가 제안한 이론에서 비롯되었으며, 그에 상응하는 실험이 그때부터 시작되었다.1971년까지 Chambers와 다른 사람들은 전자 빔 이온 도금 기술을 발표했습니다.반응성 증착 도금(ARE) 기술은 TiC 및 TiN과 같은 초경질 필름 유형이 생산되었을 때 1972년 Bunshah 보고서에서 지적되었습니다.또한 1972년에 Smith와 Molley는 코팅 공정에서 중공 음극 기술을 채택했습니다.1980년대에 중국의 이온 도금은 마침내 산업 응용 수준에 도달했으며 진공 다중 아크 이온 도금 및 아크 방전 이온 도금과 같은 코팅 프로세스가 연속적으로 나타났습니다.
진공 이온 도금의 전체 작업 과정은 다음과 같습니다. 첫째,펌프진공 챔버, 그리고기다리다4X10 ⁻ ³ Pa까지의 진공 압력또는 더 나은, 고전압 전원 공급 장치를 연결하고 기판과 증발기 사이에 저전압 방전 가스의 저온 플라즈마 영역을 구축해야 합니다.기판 전극을 5000V DC 음의 고전압과 연결하여 음극의 글로우 방전을 형성합니다.네거티브 글로우 영역 근처에서 불활성 기체 이온이 생성됩니다.그들은 음극 어두운 영역으로 들어가고 전기장에 의해 가속되어 기판 표면에 충돌합니다.이것은 청소 과정이며 코팅 과정에 들어갑니다.충격 가열 효과를 통해 일부 도금 재료가 기화됩니다.플라즈마 영역은 양성자에 들어가 전자 및 불활성 가스 이온과 충돌하고 그 중 작은 부분이 이온화됩니다. 높은 에너지를 가진 이온화된 이온은 필름 표면을 공격하여 필름 품질을 어느 정도 향상시킵니다.
진공 이온 도금의 원리는 다음과 같습니다. 진공 챔버에서 기체 방전 현상 또는 기화 재료의 이온화 부분을 사용하여 기화 재료 이온 또는 기체 이온의 충격하에 이러한 기화 물질 또는 그 반응물을 기판에 동시에 증착합니다. 얇은 필름을 얻기 위해.이온 코팅기계진공 증발, 플라즈마 기술 및 가스 글로우 방전을 결합하여 필름 품질을 향상시킬 뿐만 아니라 필름의 적용 범위를 확장합니다.이 공정의 장점은 강한 회절, 우수한 필름 접착력 및 다양한 코팅 재료입니다.이온 도금의 원리는 DM Mattox에 의해 처음 제안되었습니다.많은 종류의 이온 도금이 있습니다.가장 일반적인 유형은 저항 가열, 전자빔 가열, 플라즈마 전자빔 가열, 고주파 유도 가열 및 기타 가열 방법을 포함하는 증발 가열입니다.
게시 시간: 2023년 2월 14일