DEPICTIO PRODUCTI
Lucerna tutela cinematographici instrumenti ab ZHENHUA explicato quaestionem solvit diuturnam quam PC / ABS lucernae pingere oportet asperso.Iniectio partium lampadum formatarum permittit ut cubiculum vacuum directe ingrediatur ad evaporationem ac tutelam cinematographici processus uno tempore perficiendam, ita ut ne secundaria pollutio sine ima spargit vel superficies spargit.
Apparatus coating bene uniformitatem habet, et resistentia acidorum, resistentia alcali, resistentia nebulae salis, resistentia aquae et aliis indicibus internationalibus signis occurrentibus.Apparatum hoc specialiter ad magna et longa capita adhibita est, et evaporatio electrode ad latus portae ponitur.Apparatus consiliorum integralis est, spatio rationabili et compacto consilio, quod spatium servat et molestias repetitae institutionis servat.Apparatum late in foro a multis notis fabricantium lucernarum domi forisque adhibitum est, multos lampadas notas producens.
Test Indicatores
1. Adhaesio: nulla defluentia post 3M taenia tenaces directe conglutinata;Area effusio post sectionem crucis minor est quam 5%.
2 Oleum Silicone faciendum: linea crassitudo aquarum substructio intendens calamum mutat.
3. Corrosio resistentia: post titrationes cum 1% NaOH pro 10min, litura corrosionem non habet.
4. Immersionem test: Maceratam in aqua calida 50 per 24 horas, litura non excidit.
Ad libitum exempla
| ZBM1319 | ZBM1819 |
| φ1350*H1950(mm) | φ1800*H1950(mm) |
COGNATIO
Click Visum
Duplex ostium armorum evaporatio coating
In cubiculo vacuo, materia litura vanificata est et in subiecto posita utendo resistentia calefactionis methodi, ita ut superficies subiecti metalli textura et ach consequi possit.
Lucerna tutela film armorum
Lucerna tutela cinematographici instrumenti ab ZHENHUA explicato quaestionem solvit diuturnam quam PC / ABS lucernae pingere oportet asperso.Iniectio partes lampadum formatas dirimere permittit.
Ostium verticale duplex multifunctionalis efficiens eq...
Apparatus verticalis duplex structura ianua est.Compositum est instrumentum technologicum integrantis DC magnetron putris efficiens, resistentia evaporatio technologiae efficiens, CVD technolum efficiens.