CVD technologiae technologiae has notas habent:
1. Processus operationis armorum CVD est relative simplex et flexibilis, et potest membranam unam vel compositam et stannum diversis proportionibus praeparare;
2. CVD coating applicationes amplis habet, et adhiberi potest ad varias membranas metallicas vel metallicas pelliculas praeparandas;
3. Maximum efficiendi efficientiam propter depositionis rates vndique a paucis microns usque ad centenis microns per minutias;
4. Cum PVD methodo comparatus, CVD melius diffractionem perficiendi habet et aptissima est ad subiectas tunicas cum formis complexis, ut striatus, foraminibus obductis, atque etiam structurae foraminis caecae.Litura in cinematographico bono compacta deaurari potest.Ob caliditatem in cinematographico cinematographico, et valida adhaesio cinematographico substrata, iacuit cinematographicus firmissimus.
5. Damnum radiorum causatum est relative humilis et cum MOS processuum ambitu integrali integrari potest.
-- This article is published by Guangdong Zhenhua, avacuum machina coating fabrica
Post tempus: Mar-29-2023