Bonum controllability et repeatability de film crassitudine
Utrum crassitudo cinematographici temperari possit ad valorem praefinitum, vocatur crassitudo cinematographici temperabilitas.Crassitudo cinematographica inquisita pluries repeti potest, quae crassitudo pellicularum dicitur repeatability. Quia missio currentis et scopus vacui putris efficiens separatim coerceri potest.Ergo veli putri crassitudo moderabilis est, et velum cum praefinita crassitudine certo deponi potest.Praeterea, putris efficiens potest habere velum in magna superficie aequabili crassitudine.
Fortis adhaesio inter film et subiecto
Vis exstirpari atomorum 1-2 ordinum magnitudinum altior quam atomorum evaporatorum.Vigor conversionis summi virium deprimentium atomorum in subiecto depositorum multo altior est quam atomorum evaporationum, quae altiorem calorem generant et auget adhaesionem inter destruentes atomos et subiectas.Praeterea quidam summus navitas atomorum deiectionis diversos gradus injectionis efficiunt, ac pseudodiffusionem stratum substernunt.Praeterea substratum semper purgatur et operatur in regione plasmatis durante processu cinematographico, quae putris atomos infirma adhaesione removet, et superficiem subiectam purificat et operatur.Ideo putris pellicula validam adhaesionem subiectae habet.
Nova materia cinematographica alia a scopum parari potest
Si gas reciprocus in putris introducitur ut cum clypeo reflectat, nova pellicula materialis omnino differt a scopo obtineri potest.Exempli gratia, silicon ponitur pro scopum putris, et dolor et argon in conclave vacuum ponuntur.Post putris, SiOz insulating pellicula obtineri potest.Uti titanium ut scopum putris, nitrogenium et argon in vacuum conclave simul ponuntur, et Pascha TiN pelliculae auri instar putris obtineri potest.
High puritas et bona qualitas film
Cum in putris cinematographicis instrumenti praeparationis cinematographicum non est, partes materiae calefacientis in putris cinematographici mixtae non erunt.Incommoda putris efficiendi sunt ut cinematographica celeritatem formantia tardiora sint quam evaporationis tunicae, substrata temperatura altior est, facile afficitur immunditie gas, et fabrica structura magis implicata est.
Articulus hic a Guangdong Zhenhua editus est, opificem ofvacuum coating apparatu
Post tempus: Mar-09-2023