Arcus filum calidum augetur plasma chemicis depositionis technologiae technologiae adhibet arcum tormentarii filum calidum ad plasma arcum emittendum, abbreviatum ut arcus PECVD technologiae filum calidum.Haec technologia similis est filum arcui gun ion technologiae calidum tunicae, sed differentia est quod solida pellicula consecuta a filo calefacto arcus gun ion efficiens utitur arcu lucis electronico emissae ab arcu tormentarii filum calidum ad calefactionem et metallum in evaporationem. uas, dum arcus levis PECVD filum calidum cum vaporibus reactionibus pascitur, ut CH4 et H2, qui cinematographicis adamantibus adhibentur.Per freti in summo densitate arcus missionis currentis emissae per filum arcum gun calidum, iones gasi reciproci excitantur ad obtinendas varias particulas activas, inclusas gasi, iones atomici, catervas activas, et sic porro.
In arcu filum calidum PECVD fabrica, duo gyri electromagnetici extra cubiculum membranae adhuc inaugurati sunt, cum fluere electronicum altum densitatis gyrari per motum versus anodem, probabilitatem collisionem et ionizationem augentes inter electronicum fluxum et reactionem gas. .Coil electromagneticus etiam in columnam arcum confluere potest ut plasma densitatem totius cubiculi depositionis augeat.In arcu plasma, densitas particularum harum activarum alta est, faciens facilius membranas adamas et alia strata in workpiece deponere.
-- Hic articulus a Guangdong Zhenhua Technologia dimissus est, aoptical coating machinis manufacturer.
Post tempus: May-05-2023