1、 Principium vacui ion coating technologiae Utens arcus vacuum technologiam in conclavi vacuo, lumen arcus in materia cathode generatur, atomos et iones causans ad formandum in materia cathode.Sub actione campi electrici, atomi et ion trabes bombard th...
In praesens, numerus instrumentorum domesticorum vacuum efficiens artifices auget, sunt centeni domestici et tot nationum exterarum, quomodo opportunum eligamus supplementum inter tot notas?Quomodo eligo ius vacuum instrumenti efficiens pro te ipso fabricante?Hoc pendet a...
Vacuum coating has manifestas commoda udo vestis comparavit.1、 Lata delectu materiarum cinematographicarum et subiectarum, crassitudo cinematographici moderari potest ut membranis functionibus variis functionibus praeparet.2、 Velum sub condicione vacui paratur, ambitus est mundus et cinematographicus ...
Instrumentum sectionis coatingit attritionem emendare et proprietates instrumentorum incisionis induere, quae ob causam in operationibus incidendis essentiales sunt.Multos annos, superficies processus technologiae provisores effectae sunt solutiones efficiens nativus ad emendandum instrumentum asciandum resistendum, machinatio effi...
PVD technologia depositionis per multos annos exercitata est sicut nova technologiae superficiei modificationis, praesertim technologia vacui ion efficiens, quae his annis magnam evolutionem consecuta est et nunc late in tractatione instrumentorum, formarum, anulorum, anulorum, annorum aliorumque partium in usu est. .The...
Ut omnes novimus, definitio semiconductoris est quod conductivity habet inter conductores siccos et insulatores, resistivity inter metalla et insulator, quod plerumque in cella temperatura est intra teli 1mΩ-cm ~ 1GΩ-cm.In annis proximis, vacuum semiconductor efficiens in semi- majore ...
Vacuum evaporatio machinae efficiens stricte requisita habet ad operandum variarum systematum vacuum, processum satus-stium, tutelam a pollutione cum culpa oritur, etc., et agendi rationi operanti parere debet.1.Mechanical soleatus, quae solum sentinare possunt ad 15Pa~20Pa vel altum...
Vacuum magnetron putris aptissimum est ad tunicas depositionis reactivae.Re vera, hic processus potest membranas tenues cuiusvis oxydi, carbidi, et materiae nitrids deponere.Praeterea processus etiam praecipue convenit ad structuras cinematographicas multilayrum, etiam opti...
Hieme multi utentes dixerunt sentinam difficilem esse initium et alias difficultates habere.Haec sunt sentinae modi et suggestiones incipiens.Praeparatio ante initium.I) cingulum emissiones frenare.Solus esse potest antequam incipias, seras cum caepta componito, easque lente obstringunt.
I.Vacuum sentinam accessiones sequitur.1. Olei mist colum (alias: caligo separator, sparguntur exhauriunt, elementum sparguntur exhauriunt) Vacuum sentinam olei separatoris caligo sub actione vis impulsus, in parte olei et gas mixtionis per vacui sentinam olei separatoris sparguntur. pap...
Ion efficiens significat reactantes vel evaporationem materiae in subiecto positae per ion bombardarum gasorum vel materiarum evaporationum dum materia evaporata dissociatur vel gas emissa in cubiculo vacuo.Artificium technicum cathodae concavae insti- tutio dura ...
Executio variarum soleatus vacuorum alias differentias habet praeter facultatem ad cubiculi vacuum sentinandi.Ideo magni momenti est ad declarandum opus sentinam in ratione vacuo eligendo susceptam, et munus sentinam in diversis campis laborantibus constringitur.
DLC Technologia "DLC est abbreviatio vocabuli "DIAMOND CARBON", substantia composita ex elementis carbonibus, natura adamantino similis, et structuram atomorum graphitarum habens.Diamond-Sicut Carbon (DLC) est cinematographica amorpho quae attentionem tri... attraxit.
Continua ad mercaturam diversificationis postulatio, multis inceptis opus est diversis machinis et instrumentis comparare secundum processum activitatis suae.Vacuum enim industriae efficiens, si machina confici potest ex praecoctione ad processum post-contantem, nullum manualem interventus in...
1, Formatio metallorum compositorum in superficie scopo Ubi est mixtum in processu formandi mixtum ex scopo metallico superficiem per processum reactivum putris?Cum reactione chemica inter particulas gas reactivas et scopum superficiei atomorum atomos compositos producit...