① Gutt Kontrollbarkeet a Widderhuelbarkeet vun der Filmdicke
Ob d'Filmdicke bei engem virbestëmmte Wäert kontrolléiert ka ginn, gëtt Filmdicke Kontrollbarkeet genannt.Déi néideg Filmdicke kann fir vill Mol widderholl ginn, wat Filmdicke-Wiederholbarkeet genannt gëtt. Well d'Entladungsstroum an d'Zilstroum vun der Vakuum Sputterbeschichtung getrennt kontrolléiert kënne ginn.Dofir ass d'Dicke vum gesputterte Film kontrolléierbar, an de Film mat enger virbestëmmter Dicke kann zouverlässeg deposéiert ginn.Zousätzlech kann d'Sputterbeschichtung e Film mat enger eenheetlecher Dicke op enger grousser Uewerfläch kréien.
② Staark Adhäsioun tëscht Film a Substrat
D'Energie vun sputtered Atomer ass 1-2 Uerden vun Gréisst méi héich wéi déi vun verdampte Atomer.D'Energiekonversioun vun den héichenergesche gesputterte Atomer, déi um Substrat deposéiert sinn, ass vill méi héich wéi déi vun den verdampte Atomer, wat méi héich Hëtzt generéiert an d'Adhäsioun tëscht de gesputterte Atomer an dem Substrat verbessert.Zousätzlech produzéieren e puer héich-Energie gesputtert Atomer verschidde Injektiounsgraden, bilden eng Pseudodifusiounsschicht um Substrat.Zousätzlech gëtt de Substrat ëmmer an der Plasmaregioun wärend dem Filmbildungsprozess gereinegt an aktivéiert, wat d'Sputterende Atomer mat schwaacher Adhäsioun läscht, a purifizéiert an aktivéiert d'Substratoberfläche.Dofir huet de gesputterte Film eng staark Adhäsioun zum Substrat.
③ Neie Materialfilm anescht wéi Zil ka virbereet ginn
Wann reaktive Gas während Sputtering agefouert gëtt fir et mam Zil ze reagéieren, kann en neie Materialfilm komplett anescht wéi dem Zil kritt ginn.Zum Beispill gëtt Silizium als Sputterziel benotzt, a Sauerstoff an Argon ginn zesummen an d'Vakuumkammer gesat.No Sputtering kann SiOz Isoléierfilm kritt ginn.Mat Titan als Sputterziel, Stickstoff an Argon ginn zesummen an d'Vakuumkammer gesat, an de Phase TiN Gold-ähnlechen Film kann nom Sputtering kritt ginn.
④ Héich Rengheet a gutt Qualitéit vum Film
Zënter datt et keng Kräizkomponent am Sputterfilmpräparatiounsapparat ass, ginn d'Komponente vum Kéisheizmaterial net an der Sputterfilmschicht gemëscht.D'Nodeeler vun der Sputterbeschichtung sinn datt d'Filmbildungsgeschwindegkeet méi lues ass wéi déi vun der Verdampfungsbeschichtung, d'Substrattemperatur ass méi héich, et ass einfach duerch Gëftgas beaflosst ze ginn, an d'Struktur vum Apparat ass méi komplex.
Dësen Artikel gëtt vum Guangdong Zhenhua publizéiert, engem Hiersteller vunVakuum Beschichtung Ausrüstung
Post Zäit: Mar-09-2023