1. Evaporatioun Taux wäert Effekt op Eegeschafte vun evaporated Beschichtung
D'Verdampungsquote huet e groussen Afloss op den deposéierte Film.Well d'Beschichtungsstruktur geformt duerch niddereg Oflagerungsquote locker ass an einfach grouss Partikeloflagerung ze produzéieren, ass et ganz sécher eng méi héich Verdampungsquote ze wielen fir d'Kompaktheet vun der Beschichtungsstruktur ze garantéieren.Wann den Drock vum Reschtgas an der Vakuumkammer konstant ass, ass d'Bombardementrate vum Substrat e konstante Wäert.Dofir gëtt de Reschtgas, deen am deposéierte Film enthale gëtt, no der Auswiel vun enger méi héijer Oflagerungsquote reduzéiert ginn, sou datt d'chemesch Reaktioun tëscht de Reschtgasmoleküle an de verdampte Filmpartikelen reduzéiert gëtt.Dofir kann d'Rengheet vum deposéierte Film verbessert ginn.Et sollt bemierkt datt wann d'Oflagerungsquote ze séier ass, kann et den internen Stress vum Film erhéijen, et wäert vu Mängel am Film eropgoen, a souguer zum Broch vum Film féieren.Besonnesch am Prozess vun der reaktiver Verdampfungsplatting, fir datt de Reaktiounsgas voll mat de Partikele vum Verdampfungsfilmmaterial reagéiert, kënnt Dir e méi nidderegen Oflagerungsquote auswielen.Natierlech wielen verschidde Materialien verschidde Verdampungsraten.Als praktescht Beispill - d'Depositioun vum reflektive Film, Wann d'Filmdicke 600 × 10-8cm ass an d'Verdampungszäit 3s ass, ass d'Reflexivitéit 93%.Wéi och ëmmer, wann d'Verdampungsrate ënner der selwechter Dickebedingung verlangsamt gëtt, dauert et 10 Minutten fir d'Filmablagerung ofzeschléissen.Zu dëser Zäit ass d'Filmdicke déiselwecht.Allerdéngs ass d'Reflexivitéit op 68% erofgaang.
2. Substrate Temperatur wäert Effekt op Verdampfung Beschichtung
D'Temperatur vum Substrat huet e groussen Afloss op d'Verdampfungsbeschichtung.Déi reschtlech Gasmoleküle, déi op der Substratoberfläche bei héijer Substrattemperatur adsorbéiert sinn, sinn einfach ze entfernen.Besonnesch d'Eliminatioun vu Waasserdampmoleküle ass méi wichteg.Ausserdeem, bei méi héijen Temperaturen, ass et net nëmmen einfach d'Transformatioun vu kierperlecher Adsorptioun op chemescher Adsorptioun ze förderen, sou datt d'Verbindungskraaft tëscht Partikelen erhéicht gëtt.Ausserdeem kann et och den Ënnerscheed tëscht der Rekristalliséierungstemperatur vun Dampmolekülen an der Substrattemperatur reduzéieren, sou datt den internen Stress op der filmbaséierter Interface reduzéiert oder eliminéiert gëtt.Zousätzlech, well d'Substrattemperatur mam kristallinesche Staat vum Film verbonnen ass, ass et dacks einfach amorph oder mikrokristallin Beschichtungen ënner der Bedingung vu gerénger Substrattemperatur oder keng Heizung ze bilden.Am Géigendeel, wann d'Temperatur héich ass, ass et einfach eng kristallinesch Beschichtung ze bilden.D'Erhéijung vun der Substrattemperatur ass och förderlech fir d'mechanesch Eegeschafte vun der Beschichtung ze verbesseren.Natierlech sollt d'Substrattemperatur net ze héich sinn fir d'Verdampfung vun der Beschichtung ze verhënneren.
3. Rescht Gas Drock an Vakuum Chamber wäert Effekt op Film Eegeschafte
Den Drock vum Reschtgas an der Vakuumkammer huet e groussen Afloss op d'Leeschtung vun der Membran.D'Reschtgasmoleküle mat ze héijen Drock sinn net nëmmen einfach mat de Verdampfungspartikelen ze kollidéieren, déi d'kinetesch Energie vun de Leit op de Substrat reduzéieren an d'Adhäsioun vum Film beaflossen.Zousätzlech wäert ze héich Reschtgasdrock d'Rengheet vum Film eescht beaflossen an d'Leeschtung vun der Beschichtung reduzéieren.
4. Evaporatiounstemperatur Effekt op Verdampfungsbeschichtung
Den Effekt vun der Verdampungstemperatur op d'Membranleistung gëtt duerch d'Verännerung vun der Verdampungsrate mat der Temperatur gewisen.Wann d'Verdampfungstemperatur héich ass, wäert d'Verdampungshëtzt erofgoen.Wann d'Membranmaterial iwwer d'Verdampungstemperatur verdampft ass, kann och e liichte Temperaturännerung eng schaarf Ännerung vun der Verdampungsquote vum Membranmaterial verursaachen.Dofir ass et ganz wichteg d'Verdampungstemperatur präzis während der Oflagerung vum Film ze kontrolléieren fir e groussen Temperaturgradient ze vermeiden wann d'Verdampungsquell erhëtzt gëtt.Fir de Filmmaterial dat einfach ze subliméieren ass, ass et och ganz wichteg d'Material selwer als Heizung fir Verdampfung an aner Moossnamen ze wielen.
5. Reinigungszoustand vum Substrat a Beschichtungskammer beaflosst d'Beschichtungsleistung
Den Effekt vun der Propretéit vum Substrat an der Beschichtungskammer op d'Leeschtung vun der Beschichtung kann net ignoréiert ginn.Et wäert net nëmmen d'Rengheet vum deposéierte Film eescht beaflossen, awer och d'Haftung vum Film reduzéieren.Dofir sinn d'Reinigung vum Substrat, d'Botzbehandlung vun der Vakuumbeschichtungskammer a seng verbonne Komponenten (wéi zum Beispill de Substratrahmen) an d'Uewerflächentgasung all onverzichtbar Prozesser am Vakuumbeschichtungsprozess.
Post Zäit: Februar-28-2023