Vakuumbeschichtung enthält haaptsächlech Vakuum Dampfdepositioun, Sputterbeschichtung an Ionbeschichtung, déi all benotzt gi fir verschidde Metall- an Net-Metallfilmer op der Uewerfläch vu Plastiksdeeler duerch Destillatioun oder Sputtering ënner Vakuumbedéngungen ze deposéieren, wat eng ganz dënn Uewerflächbeschichtung kritt mat engem aussergewéinleche Virdeel vu schneller Adhäsioun, awer de Präis ass och méi héich, an d'Zorte vu Metaller déi operéiert kënne ginn si manner, a gi meeschtens fir funktionell Beschichtung vu méi héichwäertege Produkter benotzt.
Vakuum Dampdepositioun ass eng Method fir d'Metall ënner héije Vakuum z'erhëtzen, sou datt et schmëlzt, verdampft an en dënnen Metallfilm op der Uewerfläch vun der Probe no Ofkillung bilden, mat enger Dicke vun 0,8-1,2 um.Et fëllt an déi kleng konkave a konvex Deeler op der Uewerfläch vun der geformt Produit zu engem Spigel-wëll Uewerfläch ze kréien. muss Beschichtete ginn.
Sputtering bezitt sech normalerweis op Magnetron-Sputtering, wat eng Héich-Vitesse Low-Temperatur-Sputteringmethod ass.De Prozess erfuerdert e Vakuum vun ongeféier 1×10-3Torr, dat ass 1,3×10-3Pa Vakuumzoustand gefëllt mat Inertgasargon (Ar), an tëscht dem Plastikssubstrat (Anode) an dem Metallziel (Kathode) plus Héichspannung Gläichstroum, wéinst der Elektronenexcitatioun vun Inertgas entsteet duerch Glühfrëndung, produzéiert Plasma, wäert de Plasma d'Atomer vum Metallziel ausbriechen an se op de Plastikssubstrat setzen.Déi meescht vun den allgemenge Metallbeschichtungen benotzen DC Sputtering, während déi net-leitend Keramikmaterialien RF AC Sputtering benotzen.
Ionbeschichtung ass eng Method an där e Gasentladung benotzt gëtt fir de Gas oder déi verdampte Substanz ënner Vakuumbedéngungen deelweis ze ioniséieren, an déi verdampte Substanz oder seng Reaktanten op de Substrat deposéiert ginn duerch Bombardement vu Gasionen oder Ionen vun der verdampter Substanz.Dës enthalen Magnetron-Sputtering Ionbeschichtung, reaktiv Ionbeschichtung, Huel Kathode Entladung Ionbeschichtung (huel Kathode Vapor Deposition Method), a Multi-Arc Ion Beschichtung (Kathode Bogen Ion Beschichtung).
Vertikal duebel-dofir magnetron sputtering kontinuéierlech Beschichtung an Linn
Breet Applikatioun, ka fir elektronesch Produkter wéi Notizblock EMI Schirmschicht benotzt ginn, flaach Produkter, a souguer all Lampebecherprodukter bannent enger gewësser Héichtspezifikatioun kënne produzéiert ginn.Grouss Belaaschtungskapazitéit, kompakt Spannung a verstoppt Spannung vu konische Liichtbecher fir doppelseiteg Beschichtung, déi méi grouss Luedekapazitéit hunn.Stabil Qualitéit, gutt Konsistenz vun der Filmschicht vu Batch zu Batch.Héich Automatisatiounsgrad an niddreg Laafenaarbechtskäschte.
Post Zäit: Nov-07-2022