Ion BeschichtungMaschinn entstanen aus der Theorie proposéiert vum DM Mattox an den 1960er, an entspriechend Experimenter hunn deemools ugefaang;Bis 1971 hunn d'Chambers an anerer d'Technologie vun der Elektronenstrahl-Ionbeschichtung publizéiert;D'reaktiv Verdampfungsplating (ARE) Technologie gouf am Bunshah Bericht am Joer 1972 uginn, wann super-haard Filmtypen wéi TiC an TiN produzéiert goufen;Och am Joer 1972 hunn Smith a Molley d'huel Kathodetechnologie am Beschichtungsprozess ugeholl.Vun den 1980er huet d'Ionbeschichtung a China endlech den Niveau vun der industrieller Applikatioun erreecht, an d'Beschichtungsprozesser wéi Vakuum Multi-Arc Ionplating a Arc-Entladung Ionplating waren successiv opgetaucht.
De ganzen Aarbechtsprozess vu Vakuum Ionbeschichtung ass wéi follegt: als éischt,pompelender Vakuum Chamber, an dannwaitde Vakuumdrock op 4X10 ⁻ ³ Paoder besser, Et ass néideg fir d'Héichspannungsversuergung ze verbannen an e Low-Temperatur-Plasma-Beräich vu Low-Voltage-Entladungsgas tëscht dem Substrat an dem Verdamper ze bauen.Connectéiert d'Substratelektrode mat 5000V DC negativ Héichspannung fir eng Glühfrëndung vun der Kathode ze bilden.Inert Gasione ginn an der Géigend vum negativen Glühgebitt generéiert.Si kommen an d'Kathode donkel Gebitt a ginn duerch dat elektrescht Feld beschleunegt a bombardéiert d'Uewerfläch vum Substrat.Dëst ass e Botzprozess, a gitt dann an de Beschichtungsprozess.Duerch den Effekt vun der Bombardementheizung ginn e puer Plattmaterialien verdampft.D'Plasma-Beräich geet an d'Protonen, kollidéiert mat Elektronen an Inertgas-Ionen, an e klengen Deel vun hinnen sinn ioniséiert, Dës ioniséierter Ionen mat héijer Energie bombardéieren d'Filmuewerfläch an verbesseren d'Filmqualitéit zu engem gewësse Mooss.
De Prinzip vun der Vakuum-Ion-Plackéierung ass: an der Vakuumkammer, mat Hëllef vum Gasentladungsphenomen oder dem ioniséierten Deel vum verdampte Material, ënner dem Bombardement vum verdampfte Material Ionen oder Gasionen, gläichzäiteg dës verdampte Substanzen oder hir Reaktanten op de Substrat deposéieren. fir en dënnen Film ze kréien.D'IonbeschichtungMaschinnkombinéiert Vakuum Verdampfung, Plasma Technologie a Gas Glow Offlossquantitéit, déi net nëmmen d'Film Qualitéit verbessert, mä och d'Applikatioun Gamme vun der Film erweidert.D'Virdeeler vun dësem Prozess sinn staark Diffraktioun, gutt Film Adhäsioun, a verschidde Beschichtungsmaterialien.De Prinzip vun der Ionbeschichtung gouf fir d'éischt vum DM Mattox proposéiert.Et gi vill Aarte vun Ionbeschichtung.Déi heefegst Aart ass Verdampfungsheizung, abegraff Resistenzheizung, Elektronestrahlheizung, Plasma Elektronenstrahlheizung, Héichfrequenz Induktiounsheizung an aner Heizmethoden.
Post Zäit: Februar-14-2023