1, De Prinzip vun Vakuum Ion kann een Technologie
Mat Hëllef vu Vakuumbogenléisungstechnologie an enger Vakuumkammer gëtt Boulicht op der Uewerfläch vum Kathodematerial generéiert, wat Atomer an Ionen op der Kathodematerial bilden.Ënnert der Handlung vum elektresche Feld bombardéieren d'Atom- an Ionstrahlen d'Uewerfläch vum Werkstéck als Anode mat héijer Geschwindegkeet.Zur selwechter Zäit gëtt e Reaktiounsgas an d'Vakuumkammer agefouert, an eng Beschichtungsschicht mat exzellente Properties gëtt op der Uewerfläch vum Werkstéck geformt.
2, Charakteristiken vun Vakuum Ion Beschichtung
(1) Gutt Haftung vun der Beschichtungsschicht, d'Filmschicht ass net einfach ze falen.
(2) Gutt Wrap ronderëm Beschichtung a verbessert Uewerflächebedeckung.
(3) Gutt Qualitéit vun der Beschichtungsschicht.
(4) Héich Oflagerungsquote a séier Filmbildung.
(5) Breet Palette vu gëeegente Substratmaterialien a Filmmaterialien fir Beschichtung
Grouss Skala Multi-Arc Magnetron Anti-Fangerofdrock integréiert Beschichtungsausrüstung
Anti-Fangerofdrock Magnetron Sputtering Beschichtungsmaschinn adoptéiert eng Kombinatioun vu mëttlerer Frequenz Magnetron Sputtering, Multi-Arc Ion an AF Technologie, déi wäit an der Hardwareindustrie benotzt gëtt, Geschir Hardware, Titan Edelstol Plack, Edelstahl ënnerzegoen a grouss Edelstahlplackveraarbechtung.Et huet gutt Haftung, Widderhuelbarkeet, Dicht an Uniformitéit vun der Filmschicht, héich Ausgang an héich Produktausgab.
Post Zäit: Nov-07-2022