Wëllkomm zu Guangdong Zhenhua Technology Co., Ltd.
page_banner

Industrie Neiegkeeten

  • Prozess vun huel cathode Ion Beschichtung

    Prozess vun huel cathode Ion Beschichtung

    De Prozess vun der hueler Kathode Ionbeschichtung ass wéi follegt: 1, Setzt Chin Ingots am Zesummebroch.2, Montéierung vum Werkstéck.3、 Nom Evakuéierung op 5 × 10-3Pa gëtt Argongas an d'Beschichtungskammer aus dem Sëlwerröhr agefouert, an de Vakuumniveau ass ongeféier 100Pa.4, Schalt d'Virauskraaft un.5...
    Liest méi
  • Lucrative Optesch Beschichtung Ausrüstungsmaart: Demonstréieren e grousse Verkafspotenzial

    Lucrative Optesch Beschichtung Ausrüstungsmaart: Demonstréieren e grousse Verkafspotenzial

    D'optesch Beschichtungsindustrie huet e wesentleche Wuesstum iwwer d'Joren Zeien wéinst technologesche Fortschrëtter, Erhéijung vun der Nofro fir High-Performance Optik, a séier Industrialiséierung.Dofir boomt de weltwäite Maart fir optesch Beschichtungsausrüstung a schaaft enorm Méiglechkeeten fir Firmen an ...
    Liest méi
  • Analyse vun de Virdeeler an Nodeeler vun Electron Beam Verdampfung

    Analyse vun de Virdeeler an Nodeeler vun Electron Beam Verdampfung

    aféieren: Am Beräich vun dënn Film Oflagerung Technologie, Elektronenstrahl evaporation ass eng wichteg Method an verschiddenen Industrien benotzt héich-Qualitéit dënn Filmer ze produzéieren.Seng eenzegaarteg Eegeschaften an oniwwertraff Präzisioun maachen et eng attraktiv Wiel fir Fuerscher an Hiersteller.Wéi och ëmmer, wéi e ...
    Liest méi
  • Ionenstrahl assistéiert Oflagerung a Low-Energie Ionquell

    Ionenstrahl assistéiert Oflagerung a Low-Energie Ionquell

    1.Ion Strahl assistéiert Oflagerung benotzt haaptsächlech Low-Energie Ionstrahlen fir bei der Uewerflächemodifikatioun vu Materialien ze hëllefen.(1) Charakteristike vun Ion assistéiert Oflagerung Wärend dem Beschichtungsprozess ginn déi deposéiert Filmpartikel kontinuéierlech bombardéiert vu geluedenen Ionen aus der Ionquell op der Uewerfläch vum ...
    Liest méi
  • Faarf vun dekorativen Film

    Faarf vun dekorativen Film

    De Film selwer reflektéiert selektiv oder absorbéiert Luucht, a seng Faarf ass d'Resultat vun den opteschen Eegeschafte vum Film.D'Faarf vun dënnen Filmer gëtt duerch reflektéiert Liicht generéiert, sou datt zwee Aspekter musse berécksiichtegt ginn, nämlech déi intrinsesch Faarf generéiert duerch d'Absorptiounseigenschaften ...
    Liest méi
  • Aféierung vum PVD Prinzip

    Aféierung vum PVD Prinzip

    Aféierung: An der Welt vun fortgeschratt Surface Engineering, Physical Vapor Deposition (PVD) entsteet als Go-to Method fir d'Performance an d'Haltbarkeet vu verschiddene Materialien ze verbesseren.Hutt Dir jeemools gefrot wéi dës modernste Technik funktionnéiert?Haut verdéiwen mir an déi komplizéiert Mechanik vu P ...
    Liest méi
  • Optesch Beschichtungstechnologie: verbessert visuell Effekter

    An der haiteger schneller Welt, wou visuell Inhalter vill Afloss huet, spillt optesch Beschichtungstechnologie eng wichteg Roll fir d'Qualitéit vu verschiddene Displays ze verbesseren.Vu Smartphones bis Fernsehbildschirmer, optesch Beschichtungen hunn d'Art a Weis wéi mir visuell Inhalter gesinn an erliewen revolutionéiert....
    Liest méi
  • Verbessere Magnetron Sputtering Beschichtung mat Arc Offlossquantitéit Energieversuergung

    Verbessere Magnetron Sputtering Beschichtung mat Arc Offlossquantitéit Energieversuergung

    Magnetron Sputterbeschichtung gëtt a Glühfrëndung duerchgefouert, mat enger gerénger Entladungsstroumdicht a gerénger Plasma Dicht an der Beschichtungskammer.Dëst mécht d'Magnetron Sputtering Technologie Nodeeler wéi niddereg Filmsubstratverbindungskraaft, niddereg Metallioniséierungsquote, a geréng Oflagerungsgrad ...
    Liest méi
  • Benotzung vun RF Entladung

    Benotzung vun RF Entladung

    1.Beneficial fir Sputteren a Platen Isolatiounsfilm.Déi séier Ännerung vun der Elektrodepolaritéit kann benotzt ginn fir Isoléierziler direkt ze sputteren fir Isoléierfilmer ze kréien.Wann eng DC Stroumquell benotzt gëtt fir Isolatiounsfilm ze sputteren an ze deposéieren, blockéiert den Isolatiounsfilm positiv Ionen aus der Entrée ...
    Liest méi
  • Niddereg-Temperatur ionesch chemesch Hëtzt Behandlung

    Niddereg-Temperatur ionesch chemesch Hëtzt Behandlung

    1. Traditionell chemesch Wärmebehandlungstemperatur Gemeinsam traditionell chemesch Wärmebehandlungsprozesser beinhalt d'Karburéierung an d'Nitridéierung, an d'Prozesstemperatur gëtt no dem Fe-C Phasediagramm a Fe-N Phasediagramm bestëmmt.D'Kueltemperatur ass ongeféier 930 °C, an ...
    Liest méi
  • Technesch Charakteristiken vun Vakuum Verdampfung Beschichtung

    Technesch Charakteristiken vun Vakuum Verdampfung Beschichtung

    1. De Vakuum Verdampfungsbeschichtungsprozess beinhalt d'Verdampfung vu Filmmaterialien, den Transport vun Dampatomen am Héichvakuum, an de Prozess vun der Nukleatioun a Wuesstum vun Dampatomen op der Uewerfläch vum Werkstück.2. Den Oflagerungsvakuumgrad vun der Vakuumverdampfungsbeschichtung ass héich, generéis ...
    Liest méi
  • Zorte vu schwéier coatings

    Zorte vu schwéier coatings

    TiN ass déi éischt haart Beschichtung déi a Schneidinstrumenter benotzt gëtt, mat Virdeeler wéi héich Kraaft, héich Härtheet a Verschleißbeständegkeet.Et ass dat éischt industrialiséiert a wäit benotzt haart Beschichtungsmaterial, wäit an Beschichtete Tools a Beschichtete Schimmel benotzt.TiN schwéier Beschichtung gouf am Ufank bei 1000 ℃ deposéiert ...
    Liest méi
  • Charakteristiken vun Plasma Uewerfläch Modifikatioun

    Charakteristiken vun Plasma Uewerfläch Modifikatioun

    Héichenergieplasma kann Polymermaterialien bombardéieren a bestralen, hir molekulare Ketten briechen, aktiv Gruppen bilden, d'Uewerflächenergie erhéijen an Ätzen generéieren.Plasma Uewerflächbehandlung beaflosst net d'intern Struktur an d'Leeschtung vum Bulkmaterial, awer nëmme wesentlech ...
    Liest méi
  • De Prozess vu klenge Arc Source Ion Beschichtung

    De Prozess vu klenge Arc Source Ion Beschichtung

    De Prozess vun der kathodescher Bouquelle Ionbeschichtung ass am Fong d'selwecht wéi aner Beschichtungstechnologien, an e puer Operatiounen wéi d'Installatioun vun Werkstécker a Staubsauger ginn net méi widderholl.1.Bombardement Reinigung vun Werkstücke Virun der Beschichtung gëtt Argongas an d'Beschichtungskammer mat engem ...
    Liest méi
  • Charakteristiken a Generatiounsmethoden vum Arc Electron Flow

    Charakteristiken a Generatiounsmethoden vum Arc Electron Flow

    1.Characteristics vun Arc Liicht Elektronen Flux D'Dicht vun Elektronen Flux, Ion Flux, an héich-Energie neutral Atomer am Bogen Plasma generéiert duerch Arc Entladung ass vill méi héich wéi déi vun Glühwäin.Et gi méi Gasionen a Metallionen ioniséiert, opgereegt héich-Energie Atomer, a verschidde aktiv Gro...
    Liest méi
12345Nächst >>> Säit 1 / 5