Karštos vielos lanko patobulinta plazminio cheminio nusodinimo iš garų technologija naudoja karštos vielos lanko pistoletą lankinei plazmai skleisti, sutrumpintai kaip karštos vielos lanko PECVD technologija.Ši technologija yra panaši į karštos vielos lankinio pistoleto jonų dengimo technologiją, tačiau skirtumas yra tas, kad kietoje plėvelėje, gautoje naudojant karštos vielos lankinio pistoleto jonų dangą, naudojamas lanko šviesos elektronų srautas, kurį skleidžia karštos vielos lankinis pistoletas, kad įkaitintų ir išgarintų metalą. tiglis, o karštos vielos lanko lemputė PECVD tiekiama reakcijos dujomis, tokiomis kaip CH4 ir H2, kurios naudojamos deimantų plėvelėms nusodinti.Pasikliaujant didelio tankio lankinio išlydžio srove, kurią skleidžia karštos vielos lanko pistoletas, reaktyvieji dujų jonai sužadinami, kad gautų įvairias aktyvias daleles, įskaitant dujų jonus, atominius jonus, aktyviąsias grupes ir pan.
Karštos vielos lanko PECVD įrenginyje dvi elektromagnetinės ritės vis dar yra sumontuotos už dengimo patalpos ribų, todėl didelio tankio elektronų srautas sukasi judant link anodo, todėl padidėja susidūrimo ir jonizacijos tarp elektronų srauto ir reakcijos dujų tikimybė. .Elektromagnetinė ritė taip pat gali susijungti į lanko kolonėlę, kad padidėtų visos nusodinimo kameros plazmos tankis.Lankinėje plazmoje šių aktyvių dalelių tankis yra didelis, todėl ant ruošinio lengviau nusodinti deimantines plėveles ir kitus plėvelės sluoksnius.
——Šį straipsnį išleido Guangdong Zhenhua Technology, aoptinio dengimo mašinų gamintojas.
Paskelbimo laikas: 2023-05-05