Ny endri-javatra lehibe indrindra amin'ny fomba fanalefahana ny banga amin'ny fametrahana sarimihetsika dia ny tahan'ny deposition ambony.Ny tena mampiavaka ny fomba sputtering dia be dia be ny fitaovana misy sarimihetsika sy ny fanamiana tsara ny sarimihetsika sosona, fa ny tahan'ny deposition dia ambany.Ion coating dia fomba iray mampifandray ireo dingana roa ireo.
Ny fitsipiky ny fametahana ion sy ny fepetra fananganana sarimihetsika
Ny fitsipiky ny fiasan'ny ion coating dia aseho ao amin'ny Pic.Ny efi-trano banga dia paompy amin'ny tsindry ambany 10-4 Pa, ary avy eo dia feno entona inert (ohatra argon) amin'ny tsindry 0,1 ~ 1 Pa. Ny fanerena ambany entona famirapiratry ny famirapiratry ny plasma faritra dia napetraka eo anelanelan'ny substrate sy ny crucible.Ny entona inert dia manafaingana amin'ny alàlan'ny sehatry ny herinaratra ary manapoaka baomba ny endrik'ilay substrate, ka manadio ny endrik'ilay workpiece.Aorian'ny fahavitan'io dingana fanadiovana io dia manomboka amin'ny fandoroana ny akora hosaronana ao amin'ny crucible ny fanaovana coating.Miditra ao amin'ny faritry ny plasma ny poti-tsetroka etona ary mifandona amin'ny ion sy ny elektrôna tsara tsy misy dikany, ary ny sasany amin'ireo poti-tsetroka dia misaraka ary manapoaka baomba ny workpiece sy ny tampon'ny coating eo ambanin'ny fanafainganana ny saha elektrika.Ao amin'ny dingan'ny fametahana ion, tsy misy déposition fotsiny fa mipoitra koa ny ion tsara amin'ny substrate, ka ny sarimihetsika manify dia tsy azo atao raha tsy rehefa lehibe kokoa noho ny vokatry ny sputtering ny vokatra deposition.
Ny fizotry ny famenoana ion, izay ipoiran'ny substrate amin'ny ion mahery vaika foana, dia tena madio ary manana tombony maromaro raha oharina amin'ny fametahana sputtering sy evaporation.
(1) Adhesion mahery, ny sosona coating dia tsy peeling mora foana.
(a) Ao amin'ny dingan'ny famenoana ion, betsaka ny poti-angovo avo lenta avoakan'ny fivoahan'ny hazavana no ampiasaina hamokatra ny fiantraikan'ny cathodic sputtering eo amin'ny tampon'ny substrate, mipoitra sy manadio ny entona sy ny menaka mipetaka eo amin'ny tampon'ny substrate. substrate mba hanadiovana ny substrate ambonin'ny mandra-pahavitan'ny dingana coating manontolo.
(b) Ao amin'ny dingana voalohany ny coating, sputtering sy deposition miara-monina, izay afaka mamorona ny tetezamita sosona ny singa eo amin'ny interface tsara ny sarimihetsika fototra na fifangaroan'ny sarimihetsika fitaovana sy ny fototra akora, antsoina hoe "pseudo-diffusion sosona", izay afaka manatsara tsara ny adhesion fampisehoana ny sarimihetsika.
(2) Toetra tsara fonosina.Ny antony iray dia satria ny atôma ara-pitaovana coating dia ionized amin'ny tsindry avo ary mifandona amin'ny molekiola entona imbetsaka mandritra ny dingan'ny fahatongavana amin'ny substrate, mba hahafahan'ireo ion-material coating miparitaka manodidina ny substrate.Ankoatr'izay, ny atôma ara-pitaovana ionized dia apetraka eo ambonin'ny substrate eo ambanin'ny asan'ny saha elektrika, ka ny substrate iray manontolo dia apetraka amin'ny sarimihetsika manify, fa ny coating evaporation dia tsy afaka hahatratra izany vokatra izany.
(3) Ny avo lenta ny coating dia noho ny sputtering ny condensates vokatry ny daroka baomba tsy tapaka ny sarimihetsika napetraka amin'ny tsara ion, izay manatsara ny hakitroky ny coating sosona.
(4) Fantenana be dia be ny fitaovana coating sy substrates azo mifono amin'ny metaly na tsy metaly fitaovana.
(5) Raha oharina amin'ny setroka simika (CVD), dia manana mari-pana ambany kokoa ny substrate, matetika eo ambanin'ny 500 ° C, fa ny tanjaky ny adhesion dia azo ampitahaina amin'ny sarimihetsika deposition simika etona.
(6) Ny tahan'ny fametrahana avo, ny fiforonan'ny sarimihetsika haingana, ary mety handrakotra ny hatevin'ny sarimihetsika manomboka amin'ny nanometers am-polony ka hatramin'ny microns.
Ny tsy fahampian'ny ion coating dia: tsy azo fehezina tsara ny hatevin'ny sarimihetsika;ny fifantohana ny kilema dia avo rehefa ilaina ny coating tsara;ary ny entona dia hiditra eny ambonin'ny tany mandritra ny coating, izay hanova ny toetra ambonin'ny.Amin'ny toe-javatra sasany, miforona ihany koa ny lava-bato sy ny nokleary (latsaky ny 1 nm).
Raha ny tahan'ny deposition, ny ion coating dia azo oharina amin'ny fomba evaporation.Raha ny kalitaon'ny sarimihetsika, ny sarimihetsika vokarin'ny ion coating dia akaiky na tsara kokoa noho ireo nomanina tamin'ny sputtering.
Fotoana fandefasana: Nov-08-2022