Технологијата Chemical Vapor Deposition (CVD) е технологија за формирање филм која користи загревање, подобрување на плазмата, фотоасистирано и други средства за да направи гасовити супстанции да произведуваат цврсти филмови на површината на подлогата преку хемиска реакција при нормален или низок притисок.
Општо земено, реакцијата во која реактантот е гас, а еден од производите е цврст, се нарекува CVD реакција.Постојат многу видови на облоги подготвени со CVD реакција, особено во полупроводнички процес.На пример, во областа на полупроводниците, рафинирањето на суровините, подготовката на висококвалитетни полупроводнички еднокристални филмови и растот на поликристалните и аморфните филмови, од електронски уреди до интегрирани кола, се поврзани со CVD технологијата.Покрај тоа, површинскиот третман на материјалите е фаворизиран од луѓето.На пример, различни материјали како што се машини, реактор, воздушна, медицинска и хемиска опрема може да се користат за подготовка на функционални облоги со отпорност на корозија, отпорност на топлина, отпорност на абење и зајакнување на површината со методот на формирање CVD филм според нивните различни барања.
—— Оваа статија е објавена од Гуангдонг Женхуа, производител наопрема за вакуум обложување
Време на објавување: Мар-04-2023 година