Технологијата за хемиско таложење на пареа во плазма засилена со лачен лак со топла жица го користи пиштолот за лачен лак за топла жица за емитирање на лачна плазма, скратено како технологија PECVD лак на топла жица.Оваа технологија е слична на технологијата за јонско обложување со пиштол со лачен лак со топла жица, но разликата е во тоа што цврстиот филм добиен со јонска обвивка со пиштол со лачен лак го користи лак светлосниот проток на електрони што го емитува пиштолот со лачен лак за топла жица за загревање и испарување на металот во садот, додека жешката жичана лак светлина PECVD се напојува со реакциони гасови, како што се CH4 и H2, кои се користат за таложење на дијамантски филмови.Со потпирање на струјата на празнење на лакот со висока густина што ја емитува пиштолот со лачен лак, реактивните гасни јони се возбудуваат за да добијат различни активни честички, вклучувајќи гасни јони, атомски јони, активни групи итн.
Во уредот PECVD со топол жичен лак, две електромагнетни намотки сè уште се инсталирани надвор од просторијата за обложување, што предизвикува протокот на електрони со висока густина да ротира за време на движењето кон анодата, зголемувајќи ја веројатноста за судир и јонизација помеѓу протокот на електрони и реакциониот гас. .Електромагнетниот калем може исто така да се спои во лак колона за да ја зголеми густината на плазмата на целата комора за таложење.Во лачната плазма, густината на овие активни честички е висока, што го олеснува таложењето на дијамантските филмови и другите филмски слоеви на работното парче.
——Оваа статија е објавена од Гуангдонг Женхуа Технологија, апроизводител на машини за оптички облоги.
Време на објавување: мај-05-2023 година