Вакуум јонско обложување (накратко јонско обложување) е нова технологија за површинска обработка која брзо се развива во 1970-тите, која беше предложена од DM Mattox од Somdia Company во САД во 1963 година. Се однесува на процесот на користење на извор на испарување или распрскување цел на испарување или распрскување на филмскиот материјал во вакуумската атмосфера.
Првиот треба да генерира метална пареа со загревање и испарување на филмскиот материјал, кој делумно се јонизира во метална пареа и високоенергетски неутрални атоми во плазма просторот за празнење на гас, и стигнува до подлогата за да формира филм преку дејството на електричното поле. ;вториот користи високо-енергетски јони (На пример, Ar+) ја бомбардира површината на материјалот на филмот, така што распрсканите честички се јонизираат во јони или високоенергетски неутрални атоми низ просторот на празнењето на гасот и ја реализираат површината на подлогата да формира филм.
Оваа статија е објавена од Гуангдонг Женхуа, производител наопрема за вакуум обложување
Време на објавување: Мар-10-2023