Навакуум слојМашинскиот процес е поделен на: вакуумска обвивка со испарување, облога со вакуумско распрскување и вакуум јонска обвивка.
1, Облога за испарување со вакуум
Во услови на вакуум, направете го материјалот да испари, како што е металот, металната легура, итн. потоа ставете ги на површината на подлогата, методот на обложување со испарување е често употреба на отпорно греење, а потоа бомбардирање со електронски зрак на материјалот за обложување, направете ги испарува во гасна фаза, а потоа се депонира на површината на подлогата, историски, вакуумското таложење на пареа е претходната технологија што се користеше во методот PVD.
2, Облога за прскање
Гасот е подложен на празнење на сјај во вакуумски услови исполнети со (Ar) Во овој момент атомите на аргон (Ar) во азотни јони (Ar), јоните се забрзуваат со силата на електричното поле и ја бомбардираат катодната цел која е направена од материјалот за обложување, целта ќе се распрсне и ќе се депонира на површината на подлогата Инцидентните јони во распрсканата обвивка, генерално добиени со празнење на сјајот, се во опсег од 10-2pa до 10Pa, така што распрсканите честички лесно се судираат со молекулите на гасот во вакуумската комора кога летаат кон подлогата, правејќи ја насоката на движење по случаен избор и наталожениот филм лесно да биде униформен.
3, Јонска обвивка
Во услови на вакуум, во услови на вакуум, се користи одредена техника на јонизација на плазмата за делумно јонизирање на атомите на материјалот за обложување во јони. Во исто време се произведуваат многу високоенергетски неутрални атоми, кои се негативно пристрасни на подлогата. На овој начин, јоните се депонираат на површината на подлогата под длабока негативна пристрасност за да формираат тенок филм.
Време на објавување: Мар-23-2023