HFCVD0606

Ruang salutan vakum peralatan pemendapan wap kimia menggunakan struktur penyejukan air dua lapisan bebas, yang cekap dan seragam dalam penyejukan, dan mempunyai struktur yang selamat dan stabil.Peralatan ini direka bentuk dengan pintu berkembar, tingkap pemerhatian berbilang dan antara muka pengembangan berbilang, yang sesuai untuk sambungan luaran peranti tambahan seperti pengukuran suhu inframerah, analisis spektrum, pemantauan video dan termokopel.Konsep reka bentuk termaju menjadikan baik pulih dan penyelenggaraan harian, perubahan konfigurasi dan naik taraf peralatan mudah dan ringkas, serta mengurangkan kos penggunaan dan naik taraf secara berkesan.

Ciri-ciri peralatan:

1. Komponen inflasi peralatan terutamanya termasuk meter aliran jisim, injap solenoid dan tangki pencampuran gas, yang memastikan kawalan aliran gas proses yang tepat, pencampuran seragam dan pengasingan gas berbeza yang selamat, dan boleh memilih komponen sistem gas untuk kegunaan sumber gas cecair, memudahkan pemilihan diperibadikan pelbagai sumber karbon cecair, dan penggunaan selamat berlian konduktif sintetik dan sumber boron cecair elektrod.
2. Perhimpunan pengekstrakan udara dilengkapi dengan pam vakum ram berputar yang senyap dan cekap dan sistem pam molekul turbo yang boleh memenuhi persekitaran latar belakang vakum yang tinggi dengan cepat.Tolok vakum komposit dengan tolok rintangan dan tolok pengionan digunakan untuk pengukuran vakum, serta sistem tolok filem kapasitif yang boleh mengukur tekanan gas proses yang berbeza dalam julat yang luas.Tekanan pemendapan dikawal automatik sepenuhnya oleh injap kawalan berkadar berketepatan tinggi.
3. Komponen air penyejuk dilengkapi dengan tekanan air berbilang saluran, aliran, pengukuran suhu dan pemantauan automatik perisian.Komponen penyejukan yang berbeza adalah bebas antara satu sama lain, yang sesuai untuk diagnosis kerosakan pantas.Semua cawangan mempunyai suis injap bebas, yang selamat dan cekap.
4. Komponen kawalan elektrik menggunakan skrin LCD antara muka manusia-mesin bersaiz besar dan bekerjasama dengan kawalan automatik penuh PLC untuk memudahkan penyuntingan dan pengimportan formula proses.Lengkung grafik secara visual memaparkan perubahan dan nilai pelbagai parameter, dan peralatan serta parameter proses direkodkan dan diarkibkan secara automatik untuk memudahkan pengesanan masalah dan analisis statistik data.
5. Rak bahan kerja dilengkapi dengan motor servo untuk mengawal pengangkatan dan penurunan meja substrat.Jadual substrat grafit atau tembaga merah boleh dipilih.Suhu diukur dengan termokopel.
6. Komponen rak boleh direka secara keseluruhan atau berasingan mengikut keperluan pelanggan untuk memenuhi keperluan pengendalian khas pelanggan.
7. Komponen plat pengedap adalah cantik dan elegan.Plat pengedap di kawasan modul fungsi yang berbeza bagi peralatan boleh dibuka dengan cepat atau dibuka dan ditutup secara bebas, yang sangat mudah digunakan.

Peralatan CVD filamen panas sesuai untuk mendepositkan bahan berlian, termasuk salutan filem nipis, filem tebal sokongan diri, berlian mikrohablur dan nanohabluran, berlian konduktif, dll. Ia digunakan terutamanya untuk salutan pelindung tahan haus alat pemotong karbida bersimen, bahan semikonduktor seperti silikon dan silikon karbida, salutan pelesapan haba peranti, elektrod berlian konduktif doped boron, pembasmian kuman ozon air elektrolitik atau rawatan kumbahan.