1. Kadar penyejatan akan memberi kesan kepada sifat salutan sejat
Kadar penyejatan mempunyai pengaruh yang besar pada filem yang dimendapkan.Oleh kerana struktur salutan yang dibentuk oleh kadar pemendapan rendah adalah longgar dan mudah menghasilkan pemendapan zarah yang besar, adalah sangat selamat untuk memilih kadar penyejatan yang lebih tinggi untuk memastikan kekompakan struktur salutan.Apabila tekanan sisa gas dalam ruang vakum adalah malar, kadar pengeboman substrat adalah nilai malar.Oleh itu, gas sisa yang terkandung dalam filem termendap selepas memilih kadar pemendapan yang lebih tinggi akan dikurangkan, sekali gus mengurangkan tindak balas kimia antara molekul gas sisa dan zarah filem yang tersejat.Oleh itu, ketulenan filem yang didepositkan dapat dipertingkatkan.Perlu diingatkan bahawa jika kadar pemendapan terlalu cepat, ia boleh meningkatkan tekanan dalaman filem, ia akan meningkatkan kecacatan dalam filem, dan juga membawa kepada pecahnya filem.Khususnya, dalam proses penyaduran penyejatan reaktif, untuk menjadikan gas tindak balas bertindak balas sepenuhnya dengan zarah bahan filem penyejatan, anda boleh memilih kadar pemendapan yang lebih rendah.Sudah tentu, bahan yang berbeza memilih kadar penyejatan yang berbeza.Sebagai contoh praktikal– pemendapan filem pemantul, Jika ketebalan filem ialah 600×10-8cm dan masa penyejatan ialah 3s, pemantulan ialah 93%.Walau bagaimanapun, jika kadar penyejatan diperlahankan di bawah keadaan ketebalan yang sama, ia mengambil masa 10 minit untuk menyelesaikan pemendapan filem.Pada masa ini, ketebalan filem adalah sama.Walau bagaimanapun, pemantulan telah menurun kepada 68%.
2. Suhu subtrat akan memberi kesan pada salutan sejatan
Suhu substrat mempunyai pengaruh yang besar pada salutan penyejatan.Molekul gas sisa yang terjerap pada permukaan substrat pada suhu substrat yang tinggi mudah dikeluarkan.Terutama penghapusan molekul wap air adalah lebih penting.Selain itu, pada suhu yang lebih tinggi, bukan sahaja mudah untuk menggalakkan transformasi daripada penjerapan fizikal kepada penjerapan kimia, sekali gus meningkatkan daya pengikatan antara zarah.Selain itu, ia juga boleh mengurangkan perbezaan antara suhu penghabluran semula molekul wap dan suhu substrat, dengan itu mengurangkan atau menghapuskan tegasan dalaman pada antara muka berasaskan filem.Di samping itu, kerana suhu substrat berkaitan dengan keadaan kristal filem, ia selalunya mudah untuk membentuk salutan amorf atau mikrokristalin di bawah keadaan suhu substrat yang rendah atau tiada pemanasan.Sebaliknya, apabila suhu tinggi, ia mudah untuk membentuk salutan kristal.Meningkatkan suhu substrat juga kondusif untuk meningkatkan sifat mekanikal salutan.Sudah tentu, suhu substrat tidak boleh terlalu tinggi untuk mengelakkan penyejatan salutan.
3. Tekanan gas sisa dalam kebuk vakum akan memberi kesan pada sifat filem
Tekanan gas sisa dalam ruang vakum mempunyai pengaruh yang besar terhadap prestasi membran.Molekul gas sisa dengan tekanan terlalu tinggi bukan sahaja mudah untuk berlanggar dengan zarah penyejatan, yang akan mengurangkan tenaga kinetik orang pada substrat dan menjejaskan lekatan filem.Di samping itu, tekanan gas sisa yang terlalu tinggi akan menjejaskan ketulenan filem secara serius dan mengurangkan prestasi salutan.
4. Kesan suhu sejatan pada salutan sejatan
Kesan suhu sejatan ke atas prestasi membran ditunjukkan oleh perubahan kadar sejatan dengan suhu.Apabila suhu penyejatan tinggi, haba pengewapan akan berkurangan.Jika bahan membran tersejat melebihi suhu penyejatan, walaupun sedikit perubahan suhu boleh menyebabkan perubahan mendadak dalam kadar penyejatan bahan membran.Oleh itu, adalah sangat penting untuk mengawal suhu penyejatan dengan tepat semasa pemendapan filem untuk mengelakkan kecerunan suhu yang besar apabila sumber penyejatan dipanaskan.Untuk bahan filem yang mudah disublimasikan, ia juga sangat penting untuk memilih bahan itu sendiri sebagai pemanas untuk penyejatan dan langkah-langkah lain.
5. Keadaan pembersihan substrat dan ruang salutan akan memberi kesan kepada prestasi salutan
Kesan kebersihan substrat dan ruang salutan pada prestasi salutan tidak boleh diabaikan.Ia bukan sahaja akan menjejaskan ketulenan filem yang didepositkan secara serius, tetapi juga mengurangkan lekatan filem itu.Oleh itu, penulenan substrat, rawatan pembersihan ruang salutan vakum dan komponen yang berkaitan (seperti rangka substrat) dan penyahgasan permukaan adalah semua proses yang amat diperlukan dalam proses salutan vakum.
Masa siaran: Feb-28-2023