Proses pempolimeran langsung plasma

Proses pempolimeran langsung plasma

Proses pempolimeran Plasma adalah agak mudah untuk kedua-dua peralatan pempolimeran elektrod dalaman dan peralatan pempolimeran elektrod luaran, tetapi pemilihan parameter adalah lebih penting dalam pempolimeran Plasma, kerana parameter mempunyai kesan yang lebih besar terhadap struktur dan prestasi filem polimer semasa pempolimeran Plasma.

Langkah-langkah operasi untuk pempolimeran plasma langsung adalah seperti berikut:

(1) Memvakum

Vakum latar belakang pempolimeran di bawah keadaan vakum hendaklah dipam kepada 1.3×10-1Pa.Untuk tindak balas pempolimeran yang memerlukan keperluan khas untuk mengawal kandungan oksigen atau nitrogen, keperluan vakum latar belakang adalah lebih tinggi.

(2) Monomer tindak balas cas atau gas campuran gas pembawa dan monomer

Darjah vakum ialah 13-130Pa.Untuk pempolimeran Plasma yang memerlukan kerja, mod kawalan aliran dan kadar aliran yang sesuai hendaklah dipilih, secara amnya 10.100mL/min.Dalam plasma, molekul monomer terion dan dipisahkan oleh pengeboman zarah bertenaga, menghasilkan zarah aktif seperti ion dan gen aktif.Zarah aktif yang diaktifkan oleh plasma boleh menjalani pempolimeran Plasma pada antara muka fasa gas dan fasa pepejal.Monomer ialah sumber prekursor untuk pempolimeran Plasma, dan gas tindak balas input dan monomer hendaklah mempunyai ketulenan tertentu.

(3) Pemilihan bekalan kuasa pengujaan

Plasma boleh dijana menggunakan sumber kuasa DC, frekuensi tinggi, RF atau gelombang mikro untuk menyediakan persekitaran plasma untuk pempolimeran.Pemilihan bekalan kuasa ditentukan berdasarkan keperluan untuk struktur dan prestasi polimer.

(4) Pemilihan mod nyahcas

Untuk keperluan polimer, pempolimeran Plasma boleh memilih dua mod nyahcas: nyahcas berterusan atau nyahcas nadi.

(5) Pemilihan parameter nyahcas

Apabila menjalankan pempolimeran Plasma, parameter nyahcas perlu dipertimbangkan daripada parameter plasma, sifat polimer dan keperluan struktur.Magnitud kuasa yang digunakan semasa pempolimeran ditentukan oleh isipadu kebuk vakum, saiz elektrod, kadar aliran dan struktur monomer, kadar pempolimeran, dan struktur dan prestasi polimer.Sebagai contoh, jika isipadu ruang tindak balas ialah 1L dan pempolimeran RF Plasma diterima pakai, kuasa nyahcas akan berada dalam julat 10~30W.Di bawah keadaan sedemikian, plasma yang dihasilkan boleh beragregat untuk membentuk filem nipis pada permukaan bahan kerja.Kadar pertumbuhan filem pempolimeran Plasma berbeza dengan bekalan kuasa, jenis monomer dan kadar aliran, dan keadaan proses.Secara amnya, kadar pertumbuhan ialah 100nm/min~1um/min.

(6) Pengukuran parameter dalam pempolimeran Plasma

Parameter plasma dan parameter proses yang akan diukur dalam pempolimeran Plasma termasuk: voltan nyahcas, arus nyahcas, kekerapan nyahcas, Suhu elektron, ketumpatan, jenis dan kepekatan kumpulan tindak balas, dsb.

——Artikel ini dikeluarkan oleh Guangdong Zhenhua Technology, apengeluar mesin salutan optik.