Apakah teknologi salutan ion vakum

1、Prinsip teknologi salutan ion vakum
Menggunakan teknologi nyahcas arka vakum dalam ruang vakum, cahaya arka dijana pada permukaan bahan katod, menyebabkan atom dan ion terbentuk pada bahan katod.Di bawah tindakan medan elektrik, rasuk atom dan ion mengebom permukaan bahan kerja sebagai anod pada kelajuan tinggi.Pada masa yang sama, gas tindak balas dimasukkan ke dalam ruang vakum, dan lapisan salutan dengan sifat yang sangat baik terbentuk pada permukaan bahan kerja.

2、Ciri-ciri salutan ion vakum
(1) Lekatan lapisan salutan yang baik, lapisan filem tidak mudah jatuh.
(2) Balutan yang baik di sekeliling salutan dan liputan permukaan yang lebih baik.
(3) Kualiti lapisan salutan yang baik.
(4) Kadar pemendapan yang tinggi dan pembentukan filem yang cepat.
(5) Pelbagai bahan substrat yang sesuai dan bahan filem untuk salutan

Peralatan salutan bersepadu anti cap jari magnetron berbilang arka berskala besar

Mesin salutan anti-cap jari magnetron sputtering mengguna pakai gabungan frekuensi sederhana magnetron sputtering, ion berbilang arka dan teknologi AF, yang digunakan secara meluas dalam industri perkakasan, perkakasan pinggan mangkuk, plat keluli tahan karat titanium, sinki keluli tahan karat dan pemprosesan plat keluli tahan karat yang besar.Ia mempunyai lekatan yang baik, kebolehulangan, ketumpatan dan keseragaman lapisan filem, output tinggi dan hasil produk yang tinggi.