Peralatan pembersihan plasma vakum menggunakan struktur bersepadu, dilengkapi dengan sistem pembersihan ion RF, kawalan automatik sepenuhnya, operasi dan penyelenggaraan yang mudah.
Penjana frekuensi tinggi RF boleh menjana plasma berketumpatan tinggi, mengaktifkan, mengetsa dan mengabu permukaan bahan kerja, mengeluarkan habuk dan gris pada permukaan produk dengan berkesan, melepaskan tekanan permukaan, dan mendapatkan pelbagai pengubahsuaian pada permukaan bahan kerja.
Ia boleh digunakan untuk getah, kaca, seramik, logam dan produk lain, dan digunakan untuk mikroelektronik, LCD, LED, LCM, papan litar PCB, pembungkusan semikonduktor, peranti perubatan, eksperimen sains hayat dan bidang lain.