Hot wire arc သည် ပလာစမာ ဓာတု အခိုးအငွေ့များ ထုတ်လွှတ်မှု နည်းပညာကို မြှင့်တင်ပေးသည်။

hot wire arc မြှင့်တင်ထားသော ပလာစမာ ဓာတုအငွေ့ပျံခြင်းနည်းပညာသည် hot wire arc PECVD နည်းပညာအဖြစ် အတိုကောက်ဖြစ်သော arc ပလာစမာကို ထုတ်လွှတ်ရန်အတွက် ပူဝိုင်ယာဂန်းဂန်းကို အသုံးပြုထားသည်။ဤနည်းပညာသည် hot wire arc gun ion coating technology နှင့်ဆင်တူသော်လည်း ကွာခြားချက်မှာ hot wire arc gun ion coating မှရရှိသော solid film သည် hot wire arc gun မှထုတ်လွှတ်သော arc light electron flow ကိုအသုံးပြု၍ hot wire arc gun မှသတ္တုကိုအပူပေးပြီးအငွေ့ပျံစေခြင်းဖြစ်ပါသည်။ crucible သည် စိန်ဖလင်များကို အပ်နှံရန်အတွက် အသုံးပြုသည့် CH4 နှင့် H2 ကဲ့သို့သော ဓါတ်ငွေ့များဖြင့် PECVD အား ဓါတ်ငွေ့များဖြင့် ကျွေးနေချိန်တွင်၊ပူသောဝိုင်ယာကြိုး Arc gun မှထုတ်လွှတ်သော သိပ်သည်းဆမြင့်မားသော arc discharge current ကို အားကိုးခြင်းဖြင့်၊ ဓာတ်ပြုဓာတ်ငွေ့အိုင်းယွန်းများသည် ဓာတ်ငွေ့အိုင်းယွန်းများ၊ အက်တမ်အိုင်းယွန်းများ၊ တက်ကြွသောအုပ်စုများ စသည်တို့အပါအဝင် အမျိုးမျိုးသောတက်ကြွသောအမှုန်များကိုရရှိရန် စိတ်လှုပ်ရှားနေပါသည်။

ပူသောဝိုင်ယာကြိုး arc PECVD ကိရိယာတွင်၊ အပေါ်ယံအခန်းအပြင်ဘက်တွင် လျှပ်စစ်သံလိုက်ကွိုင်နှစ်ခုကို တပ်ဆင်ထားဆဲဖြစ်ပြီး anode သို့ရွေ့လျားစဉ်အတွင်း သိပ်သည်းဆမြင့်သော အီလက်ထရွန်စီးဆင်းမှုကို လှည့်ပတ်စေပြီး အီလက်ထရွန်စီးဆင်းမှုနှင့် တုံ့ပြန်ဓာတ်ငွေ့ကြားတွင် တိုက်မိပြီး အိုင်ယွန်ဖြစ်နိုင်ခြေကို တိုးစေသည်။ .လျှပ်စစ်သံလိုက်ကွိုင်သည် အစစ်ခံအခန်းတစ်ခုလုံး၏ ပလာစမာသိပ်သည်းဆကို တိုးမြင့်လာစေရန်အတွက် arc ကော်လံတစ်ခုအဖြစ်သို့လည်း ပေါင်းစပ်နိုင်သည်။arc plasma တွင်၊ ဤတက်ကြွသောအမှုန်များ၏သိပ်သည်းဆသည် မြင့်မားသောကြောင့် စိန်ဖလင်များနှင့် အခြားဖလင်အလွှာများကို workpiece ပေါ်တွင် အပ်နှံရန်ပိုမိုလွယ်ကူစေသည်။

—— ဤဆောင်းပါးကို Guangdong Zhenhua Technology, aoptical coating စက်များထုတ်လုပ်သူ.