Vacuum coating တွင် အဓိကအားဖြင့် vacuum vapor deposition၊ sputtering coating နှင့် ion coating များ ပါဝင်ပြီး ၎င်းတို့အားလုံးသည် အမျိုးမျိုးသော သတ္တုနှင့် သတ္တုမဟုတ်သော ဖလင်များကို ပလပ်စတစ် မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် ပေါင်းခံခြင်း သို့မဟုတ် sputtering ပြုလုပ်ခြင်းဖြင့် လေဟာနယ်တွင် ပေါင်းခံခြင်း သို့မဟုတ် sputtering ပြုလုပ်ခြင်းဖြင့် အလွန်ပါးလွှာသော မျက်နှာပြင်အပေါ်ယံလွှာကို ရရှိစေပါသည်။ လျင်မြန်သော adhesion ၏ထူးခြားသောအားသာချက်နှင့်အတူ၊ သို့သော်စျေးနှုန်းလည်းမြင့်မားသည်၊ လည်ပတ်နိုင်သောသတ္တုအမျိုးအစားများသည်နည်းပါးပြီးအဆင့်မြင့်ထုတ်ကုန်များ၏လုပ်ငန်းဆောင်တာအပေါ်ယံပိုင်းအတွက်ယေဘုယျအားဖြင့်အသုံးပြုကြသည်။
Vacuum vapor deposition သည် မြင့်မားသော လေဟာနယ်အောက်တွင် သတ္တုကို အပူပေးပြီး အအေးခံပြီးနောက် နမူနာ၏မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် အငွေ့ပျံကာ ပါးလွှာသောသတ္တုဖလင်တစ်ခုအဖြစ် 0.8-1.2 um ဖြင့် အပူပေးသည့်နည်းလမ်းဖြစ်သည်။ဖန်သားပြင်နှင့်တူသော မျက်နှာပြင်ကိုရရှိရန် ဖန်သားပြင်ပေါ်ရှိ အဝိုက်ငယ်နှင့် အခုံးအစိတ်အပိုင်းများကို ဖြည့်သွင်းပေးပါသည်။ ဖုန်စုပ်ကြေးမုံအကျိုးသက်ရောက်မှုရရှိရန် သို့မဟုတ် ဖုန်စုပ်ထုတ်မှုနည်းသော သံမဏိကို စုပ်ယူမှုနည်းသော အငွေ့ပြန်စေရန် အောက်ခြေမျက်နှာပြင်၊ coated ဖြစ်ရမည်။
Sputtering သည် အများအားဖြင့် magnetron sputtering ကို ရည်ညွှန်းသည်၊ ၎င်းသည် မြန်နှုန်းမြင့် အပူချိန်နိမ့် sputtering method ဖြစ်သည်။လုပ်ငန်းစဉ်တွင် 1×10-3Torr သည် 1.3×10-3Pa လေဟာနယ်ဖြစ်သည့် အာဂွန် (Ar) နှင့် ပလပ်စတစ်အလွှာ (anode) နှင့် သတ္တုပစ်မှတ် (cathode) နှင့် ဗို့အားမြင့်သော ဓါတ်ငွေ့များဖြင့် ပြည့်နေသော 1.3×10-3Pa လေဟာနယ်အခြေအနေ လိုအပ်သည်။ တိုက်ရိုက်လျှပ်စီးကြောင်းသည် တောက်ပမှုမှ ထုတ်လွှတ်သော inert gas ၏ အီလက်ထရွန်၏ လှုံ့ဆော်မှုကြောင့် ပလာစမာကို ထုတ်လုပ်ပြီး ပလာစမာသည် သတ္တုပစ်မှတ်၏ အက်တမ်များကို ဖောက်ထုတ်ပြီး ပလတ်စတစ်အလွှာပေါ်တွင် အပ်နှံသည်။ယေဘူယျသတ္တုအပေါ်ယံပိုင်းအများစုသည် DC sputtering ကိုအသုံးပြုကြပြီး၊ conductive မဟုတ်သောကြွေထည်ပစ္စည်းများသည် RF AC sputtering ကိုအသုံးပြုသည်။
Ion coating သည် လေဟာနယ်အခြေအနေအောက်တွင် ဓာတ်ငွေ့ သို့မဟုတ် အငွေ့ပျံသွားသော အရာများကို တစ်စိတ်တစ်ပိုင်း အိုင်ယွန်ဖြစ်စေရန်အတွက် ဓာတ်ငွေ့ထုတ်လွှတ်မှုကို အသုံးပြုပြီး အငွေ့ပျံသွားသော အရာ သို့မဟုတ် ၎င်း၏ ဓာတ်ပြုပစ္စည်းများကို အငွေ့ပျံသွားသော အရာများ၏ ဓာတ်ငွေ့အိုင်းယွန်း သို့မဟုတ် အိုင်းယွန်းများကို ဗုံးကြဲခြင်းဖြင့် အငွေ့ပျံသွားသော ဓာတ်ငွေ့များကို အိုင်းယွန်းအပေါ်ယံလွှာတွင် စုစည်းထားသည်။၎င်းတို့တွင် magnetron sputtering ion coating၊ reactive ion coating၊ hollow cathode discharge ion coating (hollow cathode vapor deposition method) နှင့် multi-arc ion coating (cathode arc ion coating) တို့ ပါဝင်သည်။
ဒေါင်လိုက်နှစ်ထပ် သံလိုက်ထရွန်ကို မျဉ်းကြောင်းအတိုင်း စဉ်ဆက်မပြတ် ဖုံးအုပ်ထားသည်။
ကျယ်ပြန့်စွာ အသုံးချနိုင်မှု၊ မှတ်စုစာအုပ်ခွံ EMI အကာအကွယ်အကာအလွှာ၊ ပြားချပ်ချပ်ထုတ်ကုန်များနှင့် အချို့သော အမြင့်သတ်မှတ်ချက်တစ်ခုအတွင်း မီးခွက်ထုတ်ကုန်အားလုံးကိုပင် ထုတ်လုပ်နိုင်သည်။ကြီးမားသော loading စွမ်းရည်၊ ကျစ်လစ်သိပ်သည်းစွာ ကုပ်တွယ်ခြင်းနှင့် နှစ်ထပ် coating အတွက် conical light cups များ တုန်ခါအောင် ကုပ်ခြင်းဖြစ်ပြီး ပိုကြီးသော loading capacity ပါရှိသည်။တည်ငြိမ်သော အရည်အသွေး၊ ဖလင်အလွှာ၏ တစ်သုတ်မှ တစ်သုတ်အထိ ကောင်းမွန်သော ညီညွတ်မှု။မြင့်မားသော automation နှင့်အလုပ်သမားကုန်ကျစရိတ်နိမ့်။
စာတိုက်အချိန်- နိုဝင်ဘာ- ၀၇-၂၀၂၂