ဟိလေဟာနယ်အပေါ်ယံပိုင်းစက်၏လုပ်ငန်းစဉ်ကို လေဟာနယ်အငွေ့ပျံခြင်းအပေါ်ယံပိုင်း၊ ဖုန်စုပ်စက်အလွှာနှင့် ဖုန်စုပ်စက်အိုင်းယွန်းအပေါ်ယံပိုင်းဟူ၍ ပိုင်းခြားထားသည်။
1၊ ဖုန်စုပ်စက် အငွေ့ပျံခြင်း အလွှာ
လေဟာနယ်အခြေအနေအောက်တွင်၊ သတ္တု၊ သတ္တုအလွိုင်းစသည်တို့ကို အငွေ့ပျံအောင်ပြုလုပ်ပြီးနောက် ၎င်းတို့ကို အောက်စထရိတ်မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် ထားကာ၊ ရေငွေ့ပျံသည့်အပေါ်ယံပိုင်းနည်းလမ်းကို ခံနိုင်ရည်ရှိအပူပေးစနစ်ကို မကြာခဏအသုံးပြုကာ၊ ထို့နောက် အပေါ်ယံပစ္စည်း၏ အီလက်ထရွန်အလင်းတန်းများကို ဗုံးကြဲခြင်းဖြင့် ၎င်းတို့ကို ပြုလုပ်ပါ။ ဓာတ်ငွေ့အဆင့်သို့ အငွေ့ပျံသွားပြီးနောက် အလွှာမျက်နှာပြင်ပေါ်၌ မြှုပ်နှံထားသည်၊ သမိုင်းအရ လေဟာနယ်တွင် အခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်းမှာ PVD နည်းလမ်းတွင် အသုံးပြုသည့် အစောပိုင်းနည်းပညာဖြစ်သည်။
2၊ Sputtering coating
ဤအခိုက်အတန့်တွင် အာဂွန် (Ar) အက်တမ်မှ အိုင်းယွန်းများကို နိုက်ထရိုဂျင်အိုင်းယွန်း (Ar) အဖြစ်သို့ လျှပ်စစ်စက်ကွင်း၏ တွန်းအားဖြင့် အိုင်းယွန်းများ အရှိန်မြှင့်လာပြီး ကက်သိုဒ့ပစ်မှတ်ကို ဗုံးကြဲတိုက်ခိုက်သည်။ coating material ဖြင့်ပြုလုပ်ထားသောကြောင့် ပစ်မှတ်သည် ကွဲထွက်ပြီး အလွှာမျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် Incident ions များ စုပုံလာမည်ဖြစ်ပြီး၊ ယေဘုယျအားဖြင့် glow discharge မှရရှိသော sputter coating သည် 10-2pa မှ 10Pa အကြားရှိပါသည်၊ ထို့ကြောင့် sputtered particles များသည် တိုက်မိရန်လွယ်ကူပါသည်။ လေဟာနယ်ခန်းရှိ ဓာတ်ငွေ့မော်လီကျူးများနှင့်အတူ အလွှာဆီသို့ ပျံသန်းသည့်အခါ ရွေ့လျားမှု ဦးတည်ရာကို ကျပန်းဖြစ်စေပြီး စုဆောင်းထားသော ရုပ်ရှင်သည် တစ်ပြေးညီဖြစ်ရန် လွယ်ကူစေသည်။
၃။ အိုင်းယွန်းအလွှာ
လေဟာနယ်အခြေအနေအောက်တွင်၊ လေဟာနယ်အခြေအနေအောက်တွင်၊ အချို့သော plasma ionisation နည်းပညာကို အသုံးပြုပြီး အပေါ်ယံပစ္စည်းအက်တမ်များကို အိုင်းယွန်းအဖြစ်သို့ တစ်စိတ်တစ်ပိုင်း အိုင်ယွန်များထုတ်ပေးပါသည်။ တစ်ချိန်တည်းတွင် စွမ်းအင်မြင့်မားသော ဘက်မလိုက်အက်တမ်များစွာကို ထုတ်လုပ်ပေးပါသည်။ ယင်းနည်းအားဖြင့် အိုင်းယွန်းများ၊ ပါးလွှာသော ဖလင်တစ်ခုဖွဲ့စည်းရန် နက်ရှိုင်းသော အနုတ်ဘက်လိုက်မှုအောက်တွင် အလွှာလွှာ မျက်နှာပြင်ပေါ်တွင် မြှုပ်နှံထားသည်။
စာတိုက်အချိန်- မတ်-၂၃-၂၀၂၃