ပလာစမာသည် ဓာတုအခိုးအငွေ့ထွက်ခြင်းကို မြှင့်တင်ပေးသည်။

ပလာစမာဂုဏ်သတ္တိများ
ပလာစမာ၏ ပလာစမာကို မြှင့်တင်ပေးသော ဓာတုအခိုးအငွေ့များ စုပုံခြင်းတွင် ပလာစမာ၏ သဘောသဘာဝမှာ ဓာတ်ငွေ့အဆင့်ရှိ ဓာတုတုံ့ပြန်မှုများကို အသက်သွင်းရန်အတွက် ပလာစမာရှိ အီလက်ထရွန်၏ အရွေ့စွမ်းအင်အပေါ် မှီခိုနေရခြင်းဖြစ်သည်။ပလာစမာသည် အိုင်းယွန်းများ၊ အီလက်ထရွန်များ၊ ကြားနေအက်တမ်များနှင့် မော်လီကျူးများ အစုအဝေးဖြစ်သောကြောင့်၊ ၎င်းသည် မက်ခရိုစကုပ်အဆင့်တွင် လျှပ်စစ်ဖြင့် ကြားနေပါသည်။ပလာစမာတွင် စွမ်းအင်ပမာဏအများအပြားကို ပလာစမာ၏ အတွင်းစွမ်းအင်တွင် သိမ်းဆည်းထားသည်။ပလာစမာကို မူလပလာစမာပူနှင့် အအေးပလာစမာဟူ၍ ပိုင်းခြားထားသည်။PECVD စနစ်တွင် ၎င်းသည် ဖိအားနည်းသော ဓာတ်ငွေ့ထုတ်လွှတ်မှုဖြင့် ဖွဲ့စည်းထားသော အအေးပလာစမာဖြစ်သည်။Pa အနည်းငယ်အောက် ဖိအားနည်းသော စွန့်ထုတ်မှုမှ ထွက်လာသော ဤပလာစမာသည် မျှခြေမညီသော ဓာတ်ငွေ့ပလာစမာဖြစ်သည်။
ဤပလာစမာ၏သဘောသဘာဝမှာ အောက်ပါအတိုင်းဖြစ်သည်။
(၁) အီလက်ထရွန်နှင့် အိုင်းယွန်းများ၏ ပုံမှန်မဟုတ်သော အပူရွေ့လျားမှုသည် ၎င်းတို့၏ ညွှန်ကြားလှုပ်ရှားမှုထက် ကျော်လွန်နေပါသည်။
(၂) ၎င်း၏ အိုင်ယွန်ပြုခြင်း လုပ်ငန်းစဉ်သည် အဓိကအားဖြင့် လျင်မြန်သော အီလက်ထရွန်များ ဓာတ်ငွေ့မော်လီကျူးများနှင့် တိုက်မိခြင်းကြောင့် ဖြစ်ပေါ်လာခြင်းဖြစ်သည်။
(၃) အီလက်ထရွန်များ၏ ပျမ်းမျှအပူရွေ့လျားမှုစွမ်းအင်သည် မော်လီကျူးများ၊ အက်တမ်များ၊ အိုင်းယွန်းများနှင့် ဖရီးရယ်ဒီကယ်များကဲ့သို့သော လေးလံသောအမှုန်များထက် ပြင်းအား ၁ မှ ၂ အထိ ပိုများသည်။
(၄) အီလက်ထရွန်နှင့် လေးလံသော အမှုန်များ တိုက်မိပြီးနောက် စွမ်းအင်ဆုံးရှုံးမှုကို တိုက်မိခြင်းကြားရှိ လျှပ်စစ်စက်ကွင်းမှ လျော်ကြေးပေးနိုင်သည်။
အီလက်ထရွန် အပူချိန် Te သည် လေးလံသော အမှုန်များ၏ အပူချိန် Tj နှင့် မတူသည့် PECVD စနစ်တွင် အပူချိန်နိမ့်သော ပလာစမာ ဖြစ်သောကြောင့် ကန့်သတ်ချက်များ အနည်းငယ်ဖြင့် အပူချိန်နိမ့်သော ပလာစမာကို သတ်မှတ်ရန် ခက်ခဲသည်။PECVD နည်းပညာတွင် ပလာစမာ၏ အဓိကလုပ်ဆောင်ချက်မှာ ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာ တက်ကြွသော အိုင်းယွန်းများနှင့် ဖရီးရယ်ဒီကယ်များကို ထုတ်လုပ်ရန်ဖြစ်သည်။ဤအိုင်းယွန်းများနှင့် ဖရီးရယ်ဒီကယ်များသည် ဓာတ်ငွေ့အဆင့်ရှိ အခြားသော အိုင်းယွန်းများ၊ အက်တမ်များနှင့် မော်လီကျူးများနှင့် ဓာတ်ပြုခြင်း သို့မဟုတ် ရာဇမတ်ကွက်များ ပျက်စီးခြင်းနှင့် ဓာတုဗေဒဆိုင်ရာ တုံ့ပြန်မှုများကို ဖြစ်ပေါ်စေပြီး တက်ကြွသောပစ္စည်း၏ အထွက်နှုန်းသည် အီလက်ထရွန်သိပ်သည်းဆ၊ ဓာတ်ပြုမှုပြင်းအားနှင့် အထွက်နှုန်းကိန်းတို့ဖြစ်သည်။တစ်နည်းဆိုရသော် တက်ကြွသောပစ္စည်း၏အထွက်နှုန်းသည် လျှပ်စစ်စက်ကွင်းအား၊ ဓာတ်ငွေ့ဖိအားနှင့် တိုက်မိသည့်အချိန်တွင် အမှုန်များ၏ ပျမ်းမျှလွတ်အကွာအဝေးအပေါ် မူတည်သည်။စွမ်းအင်မြင့် အီလက်ထရွန်များနှင့် တိုက်မိခြင်းကြောင့် ပလာစမာရှိ ဓာတ်ပြုဓာတ်ငွေ့များ ကွဲထွက်သွားခြင်းကြောင့် ဓာတုတုံ့ပြန်မှု၏ တက်ကြွမှုအတားအဆီးကို ကျော်လွှားနိုင်ပြီး ဓာတ်ပြုဓာတ်ငွေ့၏ အပူချိန်ကို လျှော့ချနိုင်သည်။PECVD နှင့် သမားရိုးကျ CVD အကြား အဓိက ကွာခြားချက်မှာ ဓာတုတုံ့ပြန်မှု၏ အပူချိန်ထိန်းညှိမှုဆိုင်ရာ အခြေခံမူများ ကွဲပြားသည်။ပလာစမာရှိ ဓာတ်ငွေ့မော်လီကျူးများ ကွဲထွက်မှုသည် ရွေးချယ်စရာမဟုတ်သောကြောင့် PECVD မှ အပ်နှံထားသော ဖလင်အလွှာသည် သမားရိုးကျ CVD နှင့် လုံးဝကွဲပြားပါသည်။PECVD မှထုတ်လုပ်သော အဆင့်ဖွဲ့စည်းမှုသည် မျှခြေမထူးခြားနိုင်သည့်အပြင် ၎င်း၏ဖွဲ့စည်းခြင်းကို မျှခြေအခြေနေဖြင့် ကန့်သတ်မထားတော့ပါ။သာမာန်ရုပ်ရှင်အလွှာသည် အသွန်မြူစသော အခြေအနေဖြစ်သည်။

PECVD အင်္ဂါရပ်များ
(၁) အပူချိန်နိမ့်ခြင်း။
(2) အမြှေးပါး/အခြေခံပစ္စည်း၏ မျဉ်းကြောင်းချဲ့ထွင်မှုကိန်းဂဏန်းမတူညီမှုကြောင့် ဖြစ်ပေါ်လာသော အတွင်းစိတ်ဖိစီးမှုကို လျှော့ချပါ။
(၃) အပ်နှံမှုနှုန်းသည် အလွန်မြင့်မားသည်၊ အထူးသဖြင့် အနိမ့်ပိုင်း အပူချိန် အစစ်ခံမှုဖြစ်ပြီး၊ ၎င်းသည် amorphous နှင့် microcrystalline ရုပ်ရှင်များကို ရရှိရန် အထောက်အကူဖြစ်စေသည်။

PECVD ၏ အပူချိန်နိမ့်သည့် လုပ်ငန်းစဉ်ကြောင့် အပူပိုင်းပျက်စီးမှုကို လျှော့ချနိုင်သည်၊ ဖလင်အလွှာနှင့် အလွှာပစ္စည်းများကြား အပြန်အလှန် ပျံ့နှံ့မှုနှင့် တုံ့ပြန်မှုကို လျှော့ချနိုင်သည်၊ ထို့ကြောင့် အီလက်ထရွန်နစ် အစိတ်အပိုင်းများကို မပြုလုပ်မီ သို့မဟုတ် လိုအပ်မှုကြောင့် နှစ်ဖက်စလုံးတွင် ဖုံးအုပ်ထားနိုင်မည်ဖြစ်သည်။ ပြန်လုပ်ရန်။အလွန်ကြီးမားသောစကေးပေါင်းစပ်ဆားကစ်များ (VLSI, ULSI) များထုတ်လုပ်ရန်အတွက် PECVD နည်းပညာကို အယ်လ်လျှပ်ထရိုဒိုက်ကြိုးကြိုးများဖွဲ့စည်းပြီးနောက် နောက်ဆုံးအကာအကွယ်ရုပ်ရှင်အဖြစ် PECVD နည်းပညာကို ဆီလီကွန်နိုက်ထရိတ်ဖလင် (SiN) ဖွဲ့စည်းခြင်းတွင် အောင်မြင်စွာအသုံးချခဲ့ပြီး၊ interlayer insulation အဖြစ် ဆီလီကွန်အောက်ဆိုဒ် ဖလင်ကို ဖွဲ့စည်းခြင်း။ပါးလွှာသောဖလင်ကိရိယာများအနေနှင့် PECVD နည်းပညာကို တက်ကြွမက်ထရစ်နည်းလမ်းရှိ ဖန်သားပြင်အဖြစ် အသုံးပြုကာ ပါးလွှာသောဖလင်ထရန်စစ္စတာများ (TFTs) စသည်တို့ကို ထုတ်လုပ်ရာတွင်လည်း အောင်မြင်စွာ အသုံးချခဲ့သည်။ပေါင်းစည်းထားသော ဆားကစ်များကို ပိုမိုကြီးမားသောနှင့် ပိုမိုမြင့်မားသောပေါင်းစပ်မှုအထိ ပေါင်းစပ်လုပ်ဆောင်ခြင်းနှင့် ဒြပ်ပေါင်းတစ်ပိုင်းလျှပ်ကူးပစ္စည်းကိရိယာများကို ကျယ်ကျယ်ပြန့်ပြန့်အသုံးပြုခြင်းနှင့်အတူ PECVD သည် အပူချိန်နိမ့်ခြင်းနှင့် မြင့်မားသော အီလက်ထရွန်စွမ်းအင်လုပ်ငန်းစဉ်များတွင် လုပ်ဆောင်ရန် လိုအပ်ပါသည်။ဤလိုအပ်ချက်ကိုဖြည့်ဆည်းရန်၊ အပူချိန်နိမ့်သောနေရာတွင် ပိုမိုမြင့်မားသောပြားချပ်ချပ်များကို ပေါင်းစပ်နိုင်သောနည်းပညာများကို တီထွင်ထုတ်လုပ်ရမည်ဖြစ်သည်။SiN နှင့် SiOx ရုပ်ရှင်များကို ECR ပလာစမာနှင့် helical ပလာစမာဖြင့် ပလာစမာဓာတုအငွေ့ထုတ်ခြင်း (PCVD) နည်းပညာကို အသုံးပြု၍ အကျယ်တဝင့် လေ့လာခဲ့ပြီး ပိုမိုကြီးမားသော ပေါင်းစည်းဆားကစ်များ စသည်တို့အတွက် လက်တွေ့ကျသောအဆင့်သို့ ရောက်ရှိခဲ့သည်။