रासायनिक भाप निक्षेप (CVD) प्रविधिको संक्षिप्त परिचय

केमिकल भाप डिपोजिसन (CVD) टेक्नोलोजी एक फिल्म बनाउने प्रविधि हो जसले ताप, प्लाज्मा वृद्धि, फोटो-सहायता र अन्य माध्यमहरू प्रयोग गरी ग्यासयुक्त पदार्थहरू सामान्य वा कम दबाबमा रासायनिक प्रतिक्रियाको माध्यमबाट सब्सट्रेट सतहमा ठोस फिल्महरू उत्पादन गर्दछ।

सामान्यतया, प्रतिक्रिया जसमा रिएक्टेन्ट एक ग्यास हो र उत्पादन मध्ये एक ठोस हुन्छ CVD प्रतिक्रिया भनिन्छ।त्यहाँ धेरै प्रकारका कोटिंग्स CVD प्रतिक्रिया द्वारा तयार हुन्छन्, विशेष गरी अर्धचालक प्रक्रियामा।उदाहरणका लागि, अर्धचालक क्षेत्रमा, कच्चा मालको परिष्करण, उच्च-गुणस्तरको अर्धचालक एकल क्रिस्टल फिल्महरूको तयारी, र इलेक्ट्रोनिक उपकरणहरूदेखि एकीकृत सर्किटहरूसम्म, पॉलीक्रिस्टलाइन र अमोर्फस फिल्महरूको वृद्धि, सबै CVD प्रविधिसँग सम्बन्धित छन्।थप रूपमा, सामग्रीको सतह उपचार मानिसहरू द्वारा मनपराइएको छ।उदाहरणका लागि, विभिन्न सामग्रीहरू जस्तै मेसिनरी, रिएक्टर, एयरोस्पेस, चिकित्सा र रासायनिक उपकरणहरू तिनीहरूको विभिन्न आवश्यकताहरू अनुसार CVD फिल्म गठन विधिद्वारा जंग प्रतिरोध, गर्मी प्रतिरोध, पहिरन प्रतिरोध र सतह सुदृढीकरण संग कार्यात्मक कोटिंग्स तयार गर्न प्रयोग गर्न सकिन्छ।

—— यो लेख गुआंग्डोंग Zhenhua, एक निर्माता द्वारा प्रकाशित छभ्याकुम कोटिंग उपकरण