CVD-coatingtechnologie heeft de volgende kenmerken:
1. De proceswerking van CVD-apparatuur is relatief eenvoudig en flexibel en kan enkele of samengestelde films en legeringsfilms met verschillende verhoudingen maken;
2. CVD-coating heeft een breed scala aan toepassingen en kan worden gebruikt om verschillende metaal- of metaalfilmcoatings te maken;
3. Hoge productie-efficiëntie dankzij afzettingssnelheden variërend van enkele microns tot honderden microns per minuut;
4. In vergelijking met de PVD-methode heeft CVD betere diffractieprestaties en is het zeer geschikt voor het coaten van substraten met complexe vormen, zoals groeven, gecoate gaten en zelfs blinde gatstructuren.De deklaag kan in een film met goede compactheid worden geplateerd.Vanwege de hoge temperatuur tijdens het filmvormingsproces en de sterke hechting op het grensvlak van het filmsubstraat, is de filmlaag zeer stevig
5. De schade veroorzaakt door straling is relatief laag en kan worden geïntegreerd met MOS-processen met geïntegreerde schakelingen.
——Dit artikel is gepubliceerd door Guangdong Zhenhua, afabrikant van vacuümcoatingmachines
Posttijd: 29 maart 2023