① Goede controleerbaarheid en herhaalbaarheid van filmdikte
Of de filmdikte op een vooraf bepaalde waarde kan worden geregeld, wordt de regelbaarheid van de filmdikte genoemd.De vereiste filmdikte kan vele malen worden herhaald, wat herhaalbaarheid van de filmdikte wordt genoemd. Omdat de ontladingsstroom en doelstroom van vacuümsputtercoating afzonderlijk kunnen worden geregeld.Daarom is de dikte van de gesputterde film controleerbaar en kan de film met een vooraf bepaalde dikte betrouwbaar worden afgezet.Bovendien kan de sputtercoating een film met een uniforme dikte op een groot oppervlak verkrijgen.
② Sterke hechting tussen film en substraat
De energie van gesputterde atomen is 1-2 ordes van grootte hoger dan die van verdampte atomen.De energieomzetting van de hoogenergetische gesputterde atomen die op het substraat zijn afgezet, is veel hoger dan die van de verdampte atomen, wat meer warmte genereert en de hechting tussen de gesputterde atomen en het substraat verbetert.Bovendien produceren sommige gesputterde atomen met hoge energie verschillende graden van injectie, waardoor een pseudo-diffusielaag op het substraat wordt gevormd.Bovendien wordt het substraat tijdens het filmvormingsproces altijd gereinigd en geactiveerd in het plasmagebied, waardoor de sputterende atomen met zwakke hechting worden verwijderd en het substraatoppervlak wordt gezuiverd en geactiveerd.Daarom heeft de gesputterde film een sterke hechting aan het substraat.
③ Er kan een nieuwe materiaalfilm worden gemaakt die verschilt van het doel
Als tijdens het sputteren reactief gas wordt ingebracht om het te laten reageren met het doel, kan een nieuwe materiaalfilm worden verkregen die totaal verschilt van het doel.Silicium wordt bijvoorbeeld gebruikt als sputterdoel en zuurstof en argon worden samen in de vacuümkamer gebracht.Na het sputteren kan SiOz-isolatiefilm worden verkregen.Met behulp van titanium als het sputterdoel, worden stikstof en argon samen in de vacuümkamer gebracht en kan na het sputteren de fase TiN goudachtige film worden verkregen.
④ Hoge zuiverheid en goede filmkwaliteit
Aangezien er geen kroescomponent in het sputterfilmvoorbereidingsapparaat is, zullen de componenten van het kroesverwarmermateriaal niet gemengd worden in de sputterfilmlaag.De nadelen van sputtercoating zijn dat de filmvormingssnelheid langzamer is dan die van verdampingscoating, de substraattemperatuur hoger is, het gemakkelijk wordt beïnvloed door onzuiverheidsgas en de structuur van het apparaat complexer is.
Dit artikel is gepubliceerd door Guangdong Zhenhua, een fabrikant vanapparatuur voor vacuümcoaten
Posttijd: 09-03-2023