Devacuüm coatingmachineproces is onderverdeeld in: vacuümverdampingscoating, vacuümsputtercoating en vacuümionencoating.
1 、 Vacuümverdampingscoating
Laat het materiaal onder vacuüm verdampen, zoals het metaal, de metaallegering, enz. en deponeer ze vervolgens op het substraatoppervlak, de verdampingscoatingmethode maakt vaak gebruik van weerstandsverwarming en vervolgens elektronenstraalbombardement van het coatingmateriaal, maak ze verdampt in de gasfase en vervolgens afgezet op het substraatoppervlak, historisch gezien is vacuümdampafzetting de eerdere technologie die wordt gebruikt in de PVD-methode.
2 、 Sputtercoating
Het gas wordt onderworpen aan een glimontlading onder (Ar) gevulde vacuümomstandigheden. Op dit moment atomen de argon (Ar) ionen in stikstofionen (Ar). De ionen worden versneld door de kracht van het elektrische veld en bombarderen het kathodedoel dat is gemaakt van het coatingmateriaal, het doelwit zal worden uitgespuugd en afgezet op het substraatoppervlak Incidentionen in sputtercoating, meestal verkregen door glimontlading, liggen in het bereik van 10-2pa tot 10Pa, dus de gesputterde deeltjes zijn gemakkelijk te botsen met de gasmoleculen in de vacuümkamer wanneer ze naar het substraat vliegen, waardoor de bewegingsrichting willekeurig wordt en de afgezette film gemakkelijk uniform is.
3, ionencoating
Onder vacuümomstandigheden, onder vacuümomstandigheden, een bepaalde plasma-ionisatietechniek gebruikt om de atomen van het coatingmateriaal gedeeltelijk in ionen te ioniseren. Tegelijkertijd worden veel neutrale atomen met hoge energie geproduceerd, die negatief op het substraat zijn gericht. worden afgezet op het substraatoppervlak onder een diepe negatieve voorspanning om een dunne film te vormen.
Posttijd: 23 maart 2023