Ionen coatingmachine is voortgekomen uit de theorie die in de jaren zestig door DM Mattox is voorgesteld, en in die tijd begonnen de overeenkomstige experimenten;Tot 1971 publiceerden Chambers en anderen de technologie van ionenplating met elektronenstralen;De Reactive Evaporation Plating (ARE) -technologie werd genoemd in het Bunshah-rapport in 1972, toen superharde filmsoorten zoals TiC en TiN werden geproduceerd;Eveneens in 1972 pasten Smith en Molley de holle-kathodetechnologie toe in het coatingproces.Tegen de jaren tachtig had de ionenplating in China eindelijk het niveau van industriële toepassing bereikt, en de coatingprocessen zoals vacuüm multi-arc ionenplating en arc-discharge ionenplating waren achtereenvolgens verschenen.
Het hele werkproces van vacuümionenplaten is als volgt: ten eerste,pompde vacuümkamer, en danwachtende vacuümdruk tot 4X10 ⁻ ³ Paof beter, is het noodzakelijk om de hoogspanningsvoeding aan te sluiten en een plasmagebied met lage temperatuur van laagspanningsontladingsgas op te bouwen tussen het substraat en de verdamper.Verbind de substraatelektrode met 5000V DC negatieve hoogspanning om een glimontlading van de kathode te vormen.Inerte gasionen worden gegenereerd in de buurt van het negatieve gloeigebied.Ze gaan het donkere gebied van de kathode binnen en worden versneld door het elektrische veld en bombarderen het oppervlak van het substraat.Dit is een reinigingsproces en ga dan naar het coatingproces.Door het effect van bombardementsverwarming worden sommige plateermaterialen verdampt.Het plasmagebied komt de protonen binnen, komt in botsing met elektronen en inerte gasionen, en een klein deel daarvan is geïoniseerd. Deze geïoniseerde ionen met hoge energie zullen het filmoppervlak bombarderen en de filmkwaliteit enigszins verbeteren.
Het principe van vacuüm-ionplating is: in de vacuümkamer, met behulp van het gasontladingsfenomeen of het geïoniseerde deel van het verdampte materiaal, onder het bombardement van de verdampte materiaalionen of gasionen, worden deze verdampte stoffen of hun reactanten tegelijkertijd op het substraat afgezet om een dunne film te verkrijgen.De ionencoatingmachinecombineert vacuümverdamping, plasmatechnologie en gasgloeiontlading, wat niet alleen de filmkwaliteit verbetert, maar ook het toepassingsbereik van de film vergroot.De voordelen van dit proces zijn sterke diffractie, goede filmhechting en verschillende coatingmaterialen.Het principe van ionplating werd voor het eerst voorgesteld door DM Mattox.Er zijn veel soorten ionplating.Het meest voorkomende type is verdampingsverwarming, inclusief weerstandsverwarming, elektronenstraalverwarming, plasma-elektronenstraalverwarming, hoogfrequente inductieverwarming en andere verwarmingsmethoden.
Posttijd: 14 februari 2023