Rollen til forskjellige vakuumpumper i vakuumsystemet

Ytelsen til forskjellige vakuumpumper har andre forskjeller i tillegg til evnen til å pumpe vakuum til kammeret.Derfor er det veldig viktig å avklare arbeidet som utføres av pumpen i vakuumsystemet når du velger, og rollen som pumpen spiller i forskjellige arbeidsfelt er oppsummert som følger.

1、Å være hovedpumpen i systemet
Hovedpumpen er vakuumpumpen som direkte pumper det pumpede kammeret til vakuumsystemet for å få den vakuumgraden som kreves for å oppfylle prosesskravene.
2, Grov pumpepumpe
Grov pumpepumpe er vakuumpumpen som begynner å redusere fra lufttrykket og trykket i vakuumsystemet når et annet pumpesystem som kan begynne å fungere.
3、 Pre-stage pumpe
Fortrinnspumpe er en vakuumpumpe som brukes til å holde fortrinnstrykket til en annen pumpe under det høyeste tillatte fortrinnstrykket.
4, Holdepumpe
Holdepumpe er en pumpe som ikke effektivt kan bruke hovedfortrinnspumpen når vakuumsystemets pumping er svært liten.Av denne grunn brukes en annen type hjelpefortrinnspumpe med lavere pumpehastighet i vakuumsystemet for å opprettholde det normale arbeidet til hovedpumpen eller for å opprettholde det lave trykket som kreves av den tømte beholderen.
5、 Grov vakuumpumpe eller lavvakuumpumpe
Grov- eller lavvakuumpumpe er en vakuumpumpe som starter fra luften og arbeider i området lavt eller grovt vakuumtrykk etter å ha redusert trykket i den pumpede beholderen.
6, Høyvakuumpumpe
Høyvakuumpumpe refererer til vakuumpumpen som arbeider i høyvakuumområdet.
7、Ultrahøyvakuumpumpe
Ultrahøyvakuumpumpe refererer til vakuumpumpen som arbeider i ultrahøyvakuumområdet.
8, Booster pumpe
Boosterpumpe refererer vanligvis til vakuumpumpen som arbeider mellom lavvakuumpumpe og høyvakuumpumpe for å øke pumpekapasiteten til pumpesystemet i mellomtrykkområdet eller redusere pumpehastighetskravet til den tidligere pumpen.

Introduksjon til Ion Cleaner

Plasmarens
1. Plasma er en ionisert gass der tettheten av positive ioner og elektroner er omtrent like.Den består av ioner, elektroner, frie radikaler og nøytrale partikler.
2. Det er materiens fjerde tilstand.Siden plasma er en kombinasjon av høyere energi enn gass, kan stoffet i plasmamiljøet oppnå flere fysisk-kjemiske og andre reaksjonsegenskaper.
3. plasma rengjøring maskin mekanisme er å stole på "plasma tilstand" av materialet "aktivering effekt" for å fjerne overflate flekker.
4. Plasmarengjøring er også den mest bunnløse strippingtypen av rengjøring blant alle rengjøringsmetoder.Den kan brukes mye i halvleder-, mikroelektronikk-, COG-, LCD-, LCM- og LED-prosesser.
5. Presisjonsrengjøring før enhetens emballasje, vakuumelektronikk, kontakter og releer, solcelleindustrien, plast, gummi, metall og keramiske overflaterengjøring, etsebehandling, askebehandling, overflateaktivering og andre felt av biovitenskapelige eksperimenter.