1.ଶୂନ୍ୟ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣ |ଏହି ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସାମଗ୍ରୀର ବାଷ୍ପୀକରଣ, ଉଚ୍ଚ ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନରେ ବାଷ୍ପ ପରମାଣୁ ପରିବହନ, ଏବଂ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷେତ୍ରର ପୃଷ୍ଠରେ ବାଷ୍ପ ପରମାଣୁର ବୃଦ୍ଧି ଏବଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଅନ୍ତର୍ଭୁକ୍ତ |
2. ଭାକ୍ୟୁମ୍ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣର ଜମା ଭ୍ୟାକ୍ୟୁମ୍ ଡିଗ୍ରୀ ଅଧିକ, ସାଧାରଣତ 10 10-510 |-3ପା। ଗ୍ୟାସ ଅଣୁଗୁଡ଼ିକର ମାଗଣା ପଥ ହେଉଛି 1 ~ 10 ମିଟର କ୍ରମାଙ୍କ, ଯାହା ବାଷ୍ପୀକରଣ ଉତ୍ସରୁ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷେତ୍ର ପର୍ଯ୍ୟନ୍ତ ଦୂରତାଠାରୁ ବହୁତ ଅଧିକ, ଏହି ଦୂରତାକୁ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଦୂରତା କୁହାଯାଏ, ସାଧାରଣତ 300 300 ~ 800 ମିମି |ଆବରଣ କଣିକା ଗ୍ୟାସ ଅଣୁ ଏବଂ ବାଷ୍ପ ପରମାଣୁ ସହିତ କ୍ୱଚିତ୍ ଧକ୍କା ହୋଇ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷେତ୍ରରେ ପହଞ୍ଚେ |
3. ଭ୍ୟାକ୍ୟୁମ୍ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣ ସ୍ତର କ୍ଷତ ଚିହ୍ନ ନୁହେଁ, ଏବଂ ବାଷ୍ପ ପରମାଣୁଗୁଡ଼ିକ ଉଚ୍ଚ ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନରେ ସିଧା କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷେତ୍ରକୁ ଯାଆନ୍ତି |କେବଳ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷେତ୍ରରେ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଉତ୍ସ ଆଡକୁ ମୁହାଁଇଥିବା ପାର୍ଶ୍ୱ ଫିଲ୍ମ ସ୍ତର ହାସଲ କରିପାରିବ, ଏବଂ ୱାର୍କସିପ୍ ର ପାର୍ଶ୍ୱ ଏବଂ ପିଠି ଫିଲ୍ମ ସ୍ତରକୁ କଷ୍ଟସାଧ୍ୟ ପାଇପାରିବ ନାହିଁ, ଏବଂ ଫିଲ୍ମ ଲେୟାରରେ ଖରାପ ପ୍ଲେଟିଂ ଅଛି |
4. ଭାକ୍ୟୁମ୍ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣ ସ୍ତରର କଣିକାର ଶକ୍ତି କମ୍, ଏବଂ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷେତ୍ରରେ ପହଞ୍ଚୁଥିବା ଶକ୍ତି ହେଉଛି ବାଷ୍ପୀକରଣ ଦ୍ୱାରା ଉତ୍ତାପ ଶକ୍ତି |ଯେହେତୁ ଭ୍ୟାକ୍ୟୁମ୍ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣ ସମୟରେ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷେତ୍ର ପକ୍ଷପାତ ହୋଇନଥାଏ, ଧାତୁ ପରମାଣୁଗୁଡ଼ିକ କେବଳ ବାଷ୍ପୀକରଣ ସମୟରେ ବାଷ୍ପୀକରଣର ଉତ୍ତାପ ଉପରେ ନିର୍ଭର କରନ୍ତି, ବାଷ୍ପୀକରଣ ତାପମାତ୍ରା 1000 ~ 2000 ° C, ଏବଂ ବହନ କରାଯାଉଥିବା ଶକ୍ତି 0.1 ~ 0.2eV ସହିତ ସମାନ, ତେଣୁ ଶକ୍ତି | ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର କଣିକା କମ୍, ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସ୍ତର ଏବଂ ମ୍ୟାଟ୍ରିକ୍ସ ମଧ୍ୟରେ ବନ୍ଧନ ଶକ୍ତି ଛୋଟ, ଏବଂ ଏକ ଯ ound ଗିକ ଆବରଣ ସୃଷ୍ଟି କରିବା କଷ୍ଟକର |
5. ଭ୍ୟାକ୍ୟୁମ୍ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣର ଏକ ଭଲ ଗଠନ ଅଛି |ଭ୍ୟାକ୍ୟୁମ୍ ବାଷ୍ପୀକରଣ ପ୍ଲେଟିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଉଚ୍ଚ ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନରେ ଗଠିତ ହୁଏ, ଏବଂ ବାଷ୍ପରେ ଥିବା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର କଣିକାଗୁଡ଼ିକ ମୂଳତ at ପରମାଣୁ ସ୍କେଲ୍ ହୋଇ କାର୍ଯ୍ୟକ୍ଷେତ୍ରରେ ଏକ ସୂକ୍ଷ୍ମ ମୂଳ ସୃଷ୍ଟି କରେ |
ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ଜୁନ୍ -14-2023 |