ଗୁଆଙ୍ଗଡଙ୍ଗ ଜେନହୁଆ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି କୋ।, ଲିମିଟେଡ୍ କୁ ସ୍ Welcome ାଗତ |
single_banner

ଭ୍ୟାକ୍ୟୁମ୍ ମ୍ୟାଗ୍ନେଟ୍ରନ୍ ସ୍ପୁଟରିଂ ଆବରଣ ଉପକରଣର ଯାନ୍ତ୍ରିକ ବ features ଶିଷ୍ଟ୍ୟ |

ପ୍ରବନ୍ଧ ଉତ୍ସ: ଜେନହୁଆ ଶୂନ୍ୟସ୍ଥାନ |
ପ Read ଼ନ୍ତୁ: ୧୦
ପ୍ରକାଶିତ: 22-11-07

ଭ୍ୟାକ୍ୟୁମ୍ ମ୍ୟାଗ୍ନେଟ୍ରନ୍ ସ୍ପୁଟରିଂ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ ଜମା ଆବରଣ ପାଇଁ ବିଶେଷ ଉପଯୁକ୍ତ |ବାସ୍ତବରେ, ଏହି ପ୍ରକ୍ରିୟା ଯେକ ox ଣସି ଅକ୍ସାଇଡ୍, କାର୍ବାଇଡ୍ ଏବଂ ନାଇଟ୍ରାଇଡ୍ ସାମଗ୍ରୀର ପତଳା ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଜମା କରିପାରିବ |ଏଥିସହ, ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଡିଜାଇନ୍, ରଙ୍ଗ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର, ପରିଧାନ-ପ୍ରତିରୋଧକ ଆବରଣ, ନାନୋ-ଲାମିନେଟ୍, ସୁପର୍ଲାଟାଇସ୍ ଆବରଣ, ଇନସୁଲେଟିଂ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଇତ୍ୟାଦି ସହିତ ମଲ୍ଟିଲାୟର୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସଂରଚନା ପାଇଁ ଏହି ପ୍ରକ୍ରିୟା ବିଶେଷ ଉପଯୁକ୍ତ ଅଟେ | 1970 ମସିହାରୁ ଉଚ୍ଚମାନର ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ବିଭିନ୍ନ ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ସ୍ତର ସାମଗ୍ରୀ ପାଇଁ ଜମା ଉଦାହରଣଗୁଡିକ ବିକଶିତ କରାଯାଇଛି |ଏହି ସାମଗ୍ରୀଗୁଡ଼ିକରେ ସ୍ୱଚ୍ଛ କଣ୍ଡକ୍ଟିଭ୍ ସାମଗ୍ରୀ, ସେମିକଣ୍ଡକ୍ଟର, ପଲିମର, ଅକ୍ସାଇଡ୍, କାର୍ବାଇଡ୍, ଏବଂ ନାଇଟ୍ରାଇଡ୍ ଅନ୍ତର୍ଭୂକ୍ତ ହୋଇଥିବାବେଳେ ବାଷ୍ପୀକରଣ ଆବରଣ ପରି ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଫ୍ଲୋରାଇଡ୍ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |
ଭ୍ୟାକ୍ୟୁମ୍ ମ୍ୟାଗ୍ନେଟ୍ରନ୍ ସ୍ପୁଟରିଂ ଆବରଣ ଉପକରଣର ଯାନ୍ତ୍ରିକ ବ features ଶିଷ୍ଟ୍ୟ |
ଚୁମ୍ବକୀୟ ସ୍ପୁଟରିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ମୁଖ୍ୟ ସୁବିଧା ହେଉଛି ଏହି ସାମଗ୍ରୀର ସ୍ତରଗୁଡିକ ଜମା କରିବା ପାଇଁ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ କିମ୍ବା ଅଣ-ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ ଆବରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟା ବ୍ୟବହାର କରିବା ଏବଂ ସ୍ତରର ରଚନା, ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରର ଘନତା, ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଘନତା ସମାନତା ଏବଂ ସ୍ତରର ଯାନ୍ତ୍ରିକ ଗୁଣ |ଏହି ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ନିମ୍ନଲିଖିତ ଗୁଣ ରହିଛି |

1, ବଡ଼ ଜମା ହାର |ହାଇ ସ୍ପିଡ୍ ମ୍ୟାଗ୍ନେଟ୍ରନ୍ ଇଲେକ୍ଟ୍ରୋଡ୍ ବ୍ୟବହାର ହେତୁ ଏକ ବୃହତ ଆୟନ ପ୍ରବାହ ମିଳିପାରିବ, ଯାହାକି ଏହି ଆବରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ଜମା ହାର ଏବଂ ସ୍ପୁଟର୍ ହାରକୁ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ଭାବରେ ଉନ୍ନତ କରିବ |ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ସ୍ପଟରିଂ ଆବରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟା ତୁଳନାରେ, ମ୍ୟାଗ୍ନେଟ୍ରନ୍ ସ୍ପୁଟରଙ୍ଗର ଉଚ୍ଚ କ୍ଷମତା ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ଅମଳ ଅଛି ଏବଂ ଏହା ବିଭିନ୍ନ ଶିଳ୍ପ ଉତ୍ପାଦନରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |

2, ଉଚ୍ଚ ଶକ୍ତି ଦକ୍ଷତା |ମ୍ୟାଗ୍ନେଟ୍ରନ୍ ସ୍ପୁଟର୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ସାଧାରଣତ 200 200V-1000V ପରିସର ମଧ୍ୟରେ ଭୋଲଟେଜ୍ ବାଛେ, ସାଧାରଣତ 600 600V, କାରଣ 600V ର ଭୋଲଟେଜ୍ ଶକ୍ତି ଦକ୍ଷତାର ସର୍ବୋଚ୍ଚ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ପରିସର ମଧ୍ୟରେ |

3. କମ୍ ସ୍ପଟର୍ଙ୍ଗ୍ ଶକ୍ତି |ମ୍ୟାଗ୍ନେଟ୍ରନ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ଭୋଲଟେଜ୍ କମ୍ ପ୍ରୟୋଗ କରାଯାଏ, ଏବଂ ଚୁମ୍ବକୀୟ କ୍ଷେତ୍ର କ୍ୟାଥୋଡ୍ ନିକଟରେ ଥିବା ପ୍ଲାଜମାକୁ ସୀମିତ କରେ, ଯାହା ଉଚ୍ଚ ଶକ୍ତି ଚାର୍ଜିତ କଣିକାଗୁଡ଼ିକୁ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ଉପରେ ଲଞ୍ଚ କରିବାରେ ରୋକିଥାଏ |

、 ନିମ୍ନ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ତାପମାତ୍ରା |ଡିସଚାର୍ଜ ସମୟରେ ସୃଷ୍ଟି ହୋଇଥିବା ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ଗୁଡିକୁ ମାର୍ଗଦର୍ଶନ କରିବା ପାଇଁ ଆନାଡ୍ ବ୍ୟବହାର କରାଯାଇପାରିବ, ସଂପୂର୍ଣ୍ଣ କରିବାକୁ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ସମର୍ଥନ ଆବଶ୍ୟକ ନାହିଁ, ଯାହା ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ର ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ବୋମା ବିସ୍ଫୋରଣକୁ ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ଭାବରେ ହ୍ରାସ କରିପାରେ |ଏହିପରି ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ତାପମାତ୍ରା କମ୍, ଯାହା କିଛି ପ୍ଲାଷ୍ଟିକ୍ ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପାଇଁ ଅତ୍ୟନ୍ତ ଆଦର୍ଶ ଯାହା ଉଚ୍ଚ ତାପମାତ୍ରା ଆବରଣ ପ୍ରତି ଅତ୍ୟଧିକ ପ୍ରତିରୋଧୀ ନୁହେଁ |

5, ମ୍ୟାଗ୍ନେଟ୍ରନ୍ ସ୍ପୁଟର୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ଭୂପୃଷ୍ଠ ଏଚିଂ ସମାନ ନୁହେଁ |ଟାର୍ଗେଟର ଅସମାନ ଚୁମ୍ବକୀୟ କ୍ଷେତ୍ର ଦ୍ୱାରା ମ୍ୟାଗ୍ନେଟ୍ରନ୍ ସ୍ପୁଟରିଙ୍ଗ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ଭୂପୃଷ୍ଠ ଅସମାନ ହୁଏ |ଟାର୍ଗେଟ୍ ଇଚିଂ ହାରର ଅବସ୍ଥାନ ବୃହତ ଅଟେ, ଯାହାଫଳରେ ଲକ୍ଷ୍ୟର ପ୍ରଭାବଶାଳୀ ବ୍ୟବହାର ହାର କମ୍ (କେବଳ 20-30% ବ୍ୟବହାର ହାର) |ତେଣୁ, ଲକ୍ଷ୍ୟ ବ୍ୟବହାରରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିବା ପାଇଁ, ଚୁମ୍ବକୀୟ କ୍ଷେତ୍ର ବଣ୍ଟନକୁ କିଛି ଉପାୟରେ ପରିବର୍ତ୍ତନ କରାଯିବା ଆବଶ୍ୟକ, କିମ୍ବା କ୍ୟାଥୋଡରେ ଗତି କରୁଥିବା ଚୁମ୍ବକଗୁଡ଼ିକର ବ୍ୟବହାର ମଧ୍ୟ ଲକ୍ଷ୍ୟ ବ୍ୟବହାରରେ ଉନ୍ନତି ଆଣିପାରେ |

6, ଯ os ଗିକ ଲକ୍ଷ୍ୟ |କମ୍ପୋଜିଟ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ଆବରଣ ଆଲୋଇ ଫିଲ୍ମ ତିଆରି କରିପାରିବ |ବର୍ତ୍ତମାନ, କମ୍ପୋଜିଟ୍ ମ୍ୟାଗ୍ନେଟ୍ରନ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ସ୍ପୁଟରିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟାର ବ୍ୟବହାର ଟା-ଟି ଆଲୋଇ, (Tb-Dy) -Fe ଏବଂ Gb-Co ମିଶ୍ରିତ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ରରେ ସଫଳତାର ସହିତ ଆବୃତ ହୋଇଛି |କମ୍ପୋଜିଟ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ structure ାଞ୍ଚାରେ ଯଥାକ୍ରମେ ଚାରୋଟି ପ୍ରକାର ଅଛି, ଗୋଲାକାର ଇନଲେଡ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍, ବର୍ଗ ଇନଲେଡ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍, ଛୋଟ ବର୍ଗ ଇନଲେଡ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ଏବଂ ସେକ୍ଟର ଇନଲେଡ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ |ସେକ୍ଟର ଇନଲେଡ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ଗଠନର ବ୍ୟବହାର ଭଲ |

7. ପ୍ରୟୋଗଗୁଡ଼ିକର ବ୍ୟାପକ ପରିସର |ମ୍ୟାଗ୍ନେଟ୍ରନ୍ ସ୍ପୁଟର୍ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଅନେକ ଉପାଦାନ ଜମା କରିପାରିବ, ସାଧାରଣଗୁଡ଼ିକ ହେଉଛି: ଏଗ୍, ଅାଉ, ସି, କୋ, କୁ, ଫେ, ଜି, ମୋ, ଏନବି, ନି, ଓସ୍, କ୍ର, ପିଡି, ପିଟି, ରେ, ଆର, ସି, ଟା, ଟି , Zr, SiO, AlO, GaAs, U, W, SnO, ଇତ୍ୟାଦି |

ଉଚ୍ଚମାନର ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ପାଇବା ପାଇଁ ମ୍ୟାଗ୍ନେଟ୍ରନ୍ ସ୍ପୁଟର୍ ହେଉଛି ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ଆବରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟା |ଏକ ନୂତନ କ୍ୟାଥୋଡ୍ ସହିତ ଏହାର ଉଚ୍ଚ ଲକ୍ଷ୍ୟ ବ୍ୟବହାର ଏବଂ ଉଚ୍ଚ ଜମା ହାର ରହିଛି |ଗୁଆଙ୍ଗଡଙ୍ଗ ଜେନହୁଆ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ଭ୍ୟାକ୍ୟୁମ୍ ମ୍ୟାଗ୍ନେଟ୍ରନ୍ ସ୍ପୁଟରିଙ୍ଗ ଆବରଣ ପ୍ରକ୍ରିୟା ବର୍ତ୍ତମାନ ବୃହତ କ୍ଷେତ୍ର ସବଷ୍ଟ୍ରେଟଗୁଡିକର ଆବରଣରେ ବହୁଳ ଭାବରେ ବ୍ୟବହୃତ ହେଉଛି |ଏହି ପ୍ରକ୍ରିୟା କେବଳ ସିଙ୍ଗଲ୍ ଲେୟାର୍ ଫିଲ୍ମ ଡିପୋଜିଟେସନ୍ ପାଇଁ ନୁହେଁ, ମଲ୍ଟି ଲେୟାର୍ ଫିଲ୍ମ ଆବରଣ ପାଇଁ ମଧ୍ୟ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ, ଏହା ବ୍ୟତୀତ ଫିଲ୍ମ, ଅପ୍ଟିକାଲ୍ ଫିଲ୍ମ, ଲାମିନେସନ୍ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ଚଳଚ୍ଚିତ୍ର ଆବରଣ ପାଇଁ ରୋଲ୍ ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ମଧ୍ୟ ବ୍ୟବହୃତ ହୁଏ |


ପୋଷ୍ଟ ସମୟ: ନଭେମ୍ବର -07-2022 |