ଚୁମ୍ବକୀୟ ସ୍ପୁଟରରେ ଲକ୍ଷ୍ୟ ବିଷାକ୍ତତାକୁ ପ୍ରଭାବିତ କରୁଥିବା କାରକଗୁଡିକ କ’ଣ?

1, ଲକ୍ଷ୍ୟ ପୃଷ୍ଠରେ ଧାତୁ ଯ ounds ଗିକ ଗଠନ |
ଏକ ଧାତୁ ଲକ୍ଷ୍ୟସ୍ଥଳରୁ ଏକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ ସ୍ପଟରିଂ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଦ୍ୱାରା ଯ ound ଗିକ ସୃଷ୍ଟି ପ୍ରକ୍ରିୟାରେ ଯ ound ଗିକ କେଉଁଠାରେ ସୃଷ୍ଟି ହୁଏ?ଯେହେତୁ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ ଗ୍ୟାସ୍ କଣିକା ଏବଂ ଲକ୍ଷ୍ୟସ୍ଥଳ ପୃଷ୍ଠ ପରମାଣୁ ମଧ୍ୟରେ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଯ ound ଗିକ ପରମାଣୁ ଉତ୍ପାଦନ କରେ, ଯାହା ସାଧାରଣତ ex ଏକ୍ସୋଥର୍ମିକ୍ ଅଟେ, ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଉତ୍ତାପର ଏକ ଉପାୟ ରହିବା ଆବଶ୍ୟକ, ନଚେତ୍ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଜାରି ରହିପାରିବ ନାହିଁ |ଶୂନ୍ୟ ଅବସ୍ଥାରେ, ଗ୍ୟାସ୍ ମଧ୍ୟରେ ଉତ୍ତାପ ସ୍ଥାନାନ୍ତର ସମ୍ଭବ ନୁହେଁ, ତେଣୁ ରାସାୟନିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଏକ ଦୃ solid ପୃଷ୍ଠରେ ହେବା ଆବଶ୍ୟକ |ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ସ୍ପୁଟରିଙ୍ଗ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ସର୍ଫେସ୍, ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ସର୍ଫେସ୍ ଏବଂ ଅନ୍ୟାନ୍ୟ ଗଠନମୂଳକ ପୃଷ୍ଠରେ ଯ ounds ଗିକ ସୃଷ୍ଟି କରେ |ସବଷ୍ଟ୍ରେଟ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଯ ounds ଗିକ ସୃଷ୍ଟି କରିବା ହେଉଛି ଲକ୍ଷ୍ୟ, ଅନ୍ୟ ଗଠନମୂଳକ ପୃଷ୍ଠରେ ଯ ounds ଗିକ ସୃଷ୍ଟି କରିବା ହେଉଛି ଉତ୍ସର ଅପଚୟ, ଏବଂ ଲକ୍ଷ୍ୟ ପୃଷ୍ଠରେ ଯ ounds ଗିକ ସୃଷ୍ଟି କରିବା ଯ ound ଗିକ ପରମାଣୁର ଉତ୍ସ ଭାବରେ ଆରମ୍ଭ ହୁଏ ଏବଂ କ୍ରମାଗତ ଭାବରେ ଅଧିକ ଯ ound ଗିକ ପରମାଣୁ ଯୋଗାଇବାରେ ଏକ ପ୍ରତିବନ୍ଧକ ହୋଇଯାଏ |

୨, ଲକ୍ଷ୍ୟ ବିଷର ପ୍ରଭାବ କାରକ |
ଲକ୍ଷ୍ୟ ବିଷାକ୍ତତାକୁ ପ୍ରଭାବିତ କରୁଥିବା ମୁଖ୍ୟ କାରଣ ହେଉଛି ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଗ୍ୟାସ୍ ଏବଂ ସ୍ପୁଟର୍ ଗ୍ୟାସର ଅନୁପାତ, ଅତ୍ୟଧିକ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଗ୍ୟାସ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ବିଷାକ୍ତ ହେବାର କାରଣ ହେବ |ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ ସ୍ପୁଟରିଙ୍ଗ ପ୍ରକ୍ରିୟା ଲକ୍ଷ୍ୟସ୍ଥଳ ପୃଷ୍ଠରେ ଚାଲିଥାଏ ସ୍ପୁଟରିଂ ଚ୍ୟାନେଲ ଅଞ୍ଚଳରେ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଯ ound ଗିକ ଦ୍ୱାରା ଆବୃତ ହୋଇଥିବା ପରି ଦେଖାଯାଏ କିମ୍ବା ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଯ ound ଗିକ ଛଡ଼ାଯାଇ ଧାତୁ ପୃଷ୍ଠକୁ ପୁନ exposed ଉନ୍ମୋଚିତ ହୁଏ |ଯଦି ଯ ound ଗିକ ଉତ୍ପାଦନର ହାର ଯ ound ଗିକ ଷ୍ଟ୍ରିପିଂ ହାରଠାରୁ ଅଧିକ, ଯ ound ଗିକ କଭରେଜ୍ କ୍ଷେତ୍ର ବୃଦ୍ଧି ପାଇଥାଏ |ଏକ ନିର୍ଦ୍ଦିଷ୍ଟ ଶକ୍ତିରେ, ଯ ound ଗିକ ଉତ୍ପାଦନରେ ଜଡିତ ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଗ୍ୟାସର ପରିମାଣ ବୃଦ୍ଧି ହୁଏ ଏବଂ ଯ ound ଗିକ ଉତ୍ପାଦନର ହାର ବ increases େ |ଯଦି ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଗ୍ୟାସର ପରିମାଣ ଅତ୍ୟଧିକ ବ increases େ, ଯ ound ଗିକ କଭରେଜ୍ କ୍ଷେତ୍ର ବୃଦ୍ଧି ହୁଏ |ଏବଂ ଯଦି ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଗ୍ୟାସ୍ ପ୍ରବାହ ହାର ଠିକ୍ ସମୟରେ ସଜାଡିହେବ ନାହିଁ, ଯ ound ଗିକ କଭରେଜ୍ କ୍ଷେତ୍ର ବୃଦ୍ଧି ହାରକୁ ଦମନ କରାଯାଇପାରିବ ନାହିଁ ଏବଂ ସ୍ପୁଟର୍ ଚ୍ୟାନେଲ୍ ଯ ound ଗିକ ଦ୍ୱାରା ଅଧିକ ଆଚ୍ଛାଦିତ ହେବ, ଯେତେବେଳେ ସ୍ପୁଟର୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ଯ ound ଗିକ ଦ୍ୱାରା ସମ୍ପୂର୍ଣ୍ଣ ଭାବରେ ଆଚ୍ଛାଦିତ ହେବ, ଲକ୍ଷ୍ୟ ହେଉଛି | ସଂପୂର୍ଣ୍ଣ ବିଷାକ୍ତ |

3, ଟାର୍ଗେଟ୍ ବିଷାକ୍ତ ଘଟଣା |
(1) ସକରାତ୍ମକ ଆୟନ ସଂଗ୍ରହ: ଯେତେବେଳେ ଟାର୍ଗେଟ୍ ବିଷାକ୍ତ, ଲକ୍ଷ୍ୟ ପୃଷ୍ଠରେ ଇନସୁଲେଟିଂ ଫିଲ୍ମର ଏକ ସ୍ତର ସୃଷ୍ଟି ହେବ, ଇନସୁଲେଟିଂ ସ୍ତରର ଅବରୋଧ ହେତୁ ସକରାତ୍ମକ ଆୟନ କ୍ୟାଥୋଡ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ପହଞ୍ଚେ |ସିଧାସଳଖ କ୍ୟାଥୋଡ୍ ଟାର୍ଗେଟ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ପ୍ରବେଶ କରନ୍ତୁ ନାହିଁ, କିନ୍ତୁ ଟାର୍ଗେଟ୍ ପୃଷ୍ଠରେ ଜମା ହୁଅନ୍ତୁ, ଆର୍କ ଡିସଚାର୍ଜ ପାଇଁ ଶୀତଳ କ୍ଷେତ୍ର ଉତ୍ପାଦନ କରିବା ସହଜ - ଆର୍ସିଂ, ଯାହା ଦ୍ the ାରା କ୍ୟାଥୋଡ୍ ସ୍ପୁଟର୍ ଚାଲିପାରିବ ନାହିଁ |
)

4, ଲକ୍ଷ୍ୟ ବିଷର ଶାରୀରିକ ବ୍ୟାଖ୍ୟା |
(1) ସାଧାରଣତ metal, ଧାତୁ ଯ ounds ଗିକର ଦ୍ secondary ିତୀୟ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ନିର୍ଗମନ କୋଏଫିସିଏଣ୍ଟ୍ ଧାତୁ ତୁଳନାରେ ଅଧିକ |ଟାର୍ଗେଟରେ ବିଷାକ୍ତ ହେବା ପରେ, ଟାର୍ଗେଟର ଉପରିଭାଗ ସମସ୍ତ ଧାତୁ ଯ ounds ଗିକ ଅଟେ, ଏବଂ ଆୟନ ଦ୍ bomb ାରା ବିସ୍ଫୋରଣ ହେବା ପରେ, ଦ୍ secondary ିତୀୟ ଇଲେକ୍ଟ୍ରନ୍ ସଂଖ୍ୟା ବ increases ିଥାଏ, ଯାହା ସ୍ପେସ୍ ର ଚାଳନାକୁ ଉନ୍ନତ କରିଥାଏ ଏବଂ ପ୍ଲାଜ୍ମା ପ୍ରତିରୋଧକୁ ହ୍ରାସ କରିଥାଏ, ଯାହା ଏକ ନିମ୍ନ ସ୍ପୁଟର୍ ଭୋଲଟେଜକୁ ନେଇଥାଏ |ଏହା ସ୍ପୁଟର୍ ହାରକୁ ହ୍ରାସ କରେ |ସାଧାରଣତ mag ଚୁମ୍ବକୀୟ ସ୍ପୁଟରର ସ୍ପୁଟର୍ ଭୋଲଟେଜ୍ 400V-600V ମଧ୍ୟରେ ଥାଏ, ଏବଂ ଯେତେବେଳେ ଟାର୍ଗେଟ୍ ବିଷାକ୍ତ ହୁଏ, ସ୍ପୁଟର୍ ଭୋଲଟେଜ୍ ଯଥେଷ୍ଟ କମିଯାଏ |
)
()) ରିଆକ୍ଟିଭ୍ ସ୍ପୁଟରିଂ ଗ୍ୟାସର ସ୍ପୁଟରିଂ ଦକ୍ଷତା ମୂଳତ in ନିଷ୍କ୍ରିୟ ଗ୍ୟାସର ସ୍ପୁଟର୍ ଦକ୍ଷତାଠାରୁ କମ୍ ଅଟେ, ତେଣୁ ପ୍ରତିକ୍ରିୟାଶୀଳ ଗ୍ୟାସର ଅନୁପାତ ବ after ିବା ପରେ ବିସ୍ତୃତ ସ୍ପୁଟର୍ ହାର କମିଯାଏ |

5, ଲକ୍ଷ୍ୟ ବିଷାକ୍ତ ପାଇଁ ସମାଧାନ |
(1) ମଧ୍ୟମ ଫ୍ରିକ୍ୱେନ୍ସି ବିଦ୍ୟୁତ୍ ଯୋଗାଣ କିମ୍ବା ରେଡିଓ ଫ୍ରିକ୍ୱେନ୍ସି ବିଦ୍ୟୁତ୍ ଯୋଗାଣ ଗ୍ରହଣ କରନ୍ତୁ |
(୨) ପ୍ରତିକ୍ରିୟା ଗ୍ୟାସ୍ ପ୍ରବାହର ବନ୍ଦ-ଲୁପ୍ ନିୟନ୍ତ୍ରଣକୁ ଗ୍ରହଣ କରନ୍ତୁ |
()) ଯୁଗ୍ମ ଲକ୍ଷ୍ୟଗୁଡିକ ଗ୍ରହଣ କରନ୍ତୁ |
) ହାର ହ୍ରାସ ପାଇଥାଏ |

–ଏହି ଆର୍ଟିକିଲ୍ ଭ୍ୟାକ୍ୟୁମ୍ ଆବରଣ ଉପକରଣର ନିର୍ମାତା ଗୁଆଙ୍ଗଡଙ୍ଗ ଜେନହୁଆ ଟେକ୍ନୋଲୋଜି ଦ୍ୱାରା ପ୍ରକାଶିତ |