Technologia chemicznego osadzania z fazy gazowej wzmocnionego łukiem gorącym drutem wykorzystuje pistolet łukowy z gorącym drutem do emisji plazmy łukowej, w skrócie technologia PECVD łuku gorącego drutu.Ta technologia jest podobna do technologii powlekania jonowego z gorącym drutem, ale różnica polega na tym, że stała warstwa uzyskana przez powlekanie jonowe z gorącym drutem wykorzystuje strumień elektronów emitowany przez łuk z gorącym drutem do podgrzewania i odparowywania metalu w tygiel, podczas gdy lampa łukowa PECVD z gorącym drutem jest zasilana gazami reakcyjnymi, takimi jak CH4 i H2, które są używane do osadzania warstw diamentowych.Opierając się na prądzie wyładowania łukowego o dużej gęstości, emitowanym przez pistolet łukowy z gorącym drutem, reaktywne jony gazu są wzbudzane w celu uzyskania różnych aktywnych cząstek, w tym jonów gazu, jonów atomowych, grup aktywnych i tak dalej.
W urządzeniu PECVD z gorącym drutem dwie cewki elektromagnetyczne są nadal zainstalowane na zewnątrz pomieszczenia do powlekania, powodując obracanie się strumienia elektronów o dużej gęstości podczas ruchu w kierunku anody, zwiększając prawdopodobieństwo kolizji i jonizacji między przepływem elektronów a gazem reakcyjnym .Cewka elektromagnetyczna może również zbiegać się w kolumnę łukową, aby zwiększyć gęstość plazmy w całej komorze osadzania.W plazmie łukowej gęstość tych aktywnych cząstek jest wysoka, co ułatwia osadzanie warstw diamentowych i innych warstw na obrabianym przedmiocie.
——Ten artykuł został opublikowany przez Guangdong Zhenhua Technology, aproducent maszyn do powlekania optycznego.
Czas postu: maj-05-2023