1powlekanie próżnioweproces obejmuje odparowywanie materiałów foliowych, transport atomów pary w wysokiej próżni oraz proces zarodkowania i wzrostu atomów pary na powierzchni przedmiotu obrabianego.
2. Stopień próżni osadzania powłoki z odparowaniem próżniowym jest wysoki, zwykle 10-510-3Pa. Swobodna ścieżka cząsteczek gazu ma rząd wielkości 1 ~ 10 m, co jest znacznie większe niż odległość od źródła parowania do przedmiotu obrabianego, odległość ta nazywana jest odległością parowania, ogólnie 300 ~ 800 mm.Cząsteczki powłoki prawie nie zderzają się z cząsteczkami gazu i atomami pary i docierają do przedmiotu obrabianego.
3. Warstwa powłoki z odparowaniem próżniowym nie jest nawijana, a atomy pary trafiają prosto do przedmiotu obrabianego pod wysoką próżnią.Tylko strona zwrócona w stronę źródła parowania na przedmiocie obrabianym może uzyskać warstwę folii, a strona i tył przedmiotu obrabianego z trudem mogą uzyskać warstwę folii, a warstwa folii ma słabe poszycie.
4. Energia cząstek warstwy powłoki odparowującej próżniowo jest niska, a energia docierająca do przedmiotu obrabianego to energia cieplna przenoszona przez parowanie.Ponieważ przedmiot obrabiany nie jest obciążony podczas powlekania przez odparowanie próżniowe, atomy metalu polegają tylko na cieple parowania podczas odparowywania, temperatura parowania wynosi 1000 ~ 2000 ° C, a przenoszona energia jest równoważna 0,1 ~ 0,2 eV, więc energia cząstki filmu są małe, siła wiązania między warstwą filmu a matrycą jest mała i trudno jest utworzyć złożoną powłokę.
5. Warstwa powłoki odparowującej próżniowo ma delikatną strukturę.Proces powlekania przez odparowanie próżniowe powstaje w warunkach wysokiej próżni, a cząsteczki filmu w oparach mają zasadniczo skalę atomową, tworząc drobny rdzeń na powierzchni przedmiotu obrabianego.
Czas postu: 14 czerwca 2023 r