Powłoka jonowamaszyna wywodzi się z teorii zaproponowanej przez DM Mattoxa w latach 60. XX wieku i wówczas rozpoczęto odpowiednie eksperymenty;Do 1971 roku Chambers i inni publikowali technologię powlekania jonowego wiązką elektronów;Technologia reaktywnego powlekania przez odparowanie (ARE) została wskazana w raporcie Bunshaha z 1972 r., Kiedy wyprodukowano super twarde rodzaje folii, takie jak TiC i TiN;Również w 1972 roku Smith i Molley przyjęli technologię katody wnękowej w procesie powlekania.W latach 80. powlekanie jonowe w Chinach w końcu osiągnęło poziom zastosowań przemysłowych, a procesy powlekania, takie jak próżniowe powlekanie jonowe wieloma łukami i powlekanie jonowe z wyładowaniem łukowym, pojawiały się sukcesywnie.
Cały proces roboczy próżniowego powlekania jonowego jest następujący: po pierwsze,pompakomorze próżniowej, a następnieCzekaćpodciśnienie do 4X10 ⁻ ³ Paalbo lepiej, konieczne jest podłączenie zasilania wysokonapięciowego oraz zbudowanie niskotemperaturowej strefy plazmy niskonapięciowego gazu wyładowczego pomiędzy podłożem a parownikiem.Podłącz elektrodę podłoża do ujemnego wysokiego napięcia 5000 V DC, aby utworzyć wyładowanie jarzeniowe katody.Jony gazu obojętnego są generowane w pobliżu obszaru ujemnego jarzenia.Wchodzą w ciemny obszar katody i są przyspieszane przez pole elektryczne i bombardują powierzchnię podłoża.Jest to proces czyszczenia, a następnie wchodzi w proces powlekania.W wyniku ogrzewania bombardującego niektóre materiały poszycia ulegają odparowaniu.Obszar plazmy wchodzi w protony, zderza się z elektronami i jonami gazu obojętnego, a niewielka ich część ulega jonizacji. Te zjonizowane jony z dużą energią bombardują powierzchnię filmu i do pewnego stopnia poprawiają jakość filmu.
Zasada próżniowego powlekania jonowego polega na tym, że w komorze próżniowej, wykorzystując zjawisko wyładowania gazowego lub zjonizowaną część odparowanego materiału, pod bombardowaniem jonów odparowanego materiału lub jonów gazowych, jednocześnie osadza się te odparowane substancje lub ich reagenty na podłożu aby uzyskać cienką warstwę.Powłoka jonowamaszynałączy w sobie odparowywanie próżniowe, technologię plazmową oraz wyładowanie jarzeniowe, co nie tylko poprawia jakość folii, ale także poszerza zakres zastosowań folii.Zaletami tego procesu są silna dyfrakcja, dobra przyczepność filmu i różne materiały powłokowe.Zasada powlekania jonowego została po raz pierwszy zaproponowana przez DM Mattox.Istnieje wiele rodzajów powlekania jonowego.Najpopularniejszym typem jest ogrzewanie parowania, w tym ogrzewanie oporowe, ogrzewanie wiązką elektronów, ogrzewanie wiązką elektronów plazmy, ogrzewanie indukcyjne o wysokiej częstotliwości i inne metody ogrzewania.
Czas postu: 14-02-2023