د کیمیاوي بخار ډیپوزیشن (CVD) ټیکنالوژي د فلم جوړونې ټیکنالوژي ده چې د تودوخې ، پلازما لوړولو ، عکس العمل او نورو وسیلو څخه کار اخلي ترڅو ګاز لرونکي توکي د نورمال یا ټیټ فشار لاندې کیمیاوي تعاملاتو له لارې د سبسټریټ سطح باندې جامد فلمونه تولید کړي.
عموما، هغه عکس العمل چې عکس العمل یې ګاز وي او یو محصول جامد وي د CVD غبرګون په نوم یادیږي.د CVD عکس العمل لخوا چمتو شوي ډیری ډوله کوټینګونه شتون لري ، په ځانګړي توګه د سیمی کنډکټر پروسې کې.د مثال په توګه، د سیمیکمډکټر په ساحه کې، د خامو موادو تصفیه، د لوړ کیفیت سیمیک کنډکټر واحد کرسټال فلمونو چمتو کول، او د پولی کریسټالین او امورفوس فلمونو وده، د بریښنایی وسیلو څخه مدغم سرکیټونو پورې، ټول د CVD ټیکنالوژۍ پورې تړاو لري.سربیره پردې ، د موادو سطحي درملنه د خلکو لخوا خوښیږي.د مثال په توګه، مختلف توکي لکه ماشینري، ریکټور، فضا، طبي او کیمیاوي تجهیزات د دوی د مختلفو اړتیاو سره سم د CVD فلم جوړونې طریقې په واسطه د زنګ مقاومت، تودوخې مقاومت، د پوښ مقاومت او د سطحې پیاوړتیا سره د فعال پوښونو چمتو کولو لپاره کارول کیدی شي.
—— دا مقاله د ګوانګډونګ ژینوا لخوا خپره شوې ، د تولید کونکيد ویکیوم کوټینګ تجهیزات
د پوسټ وخت: مارچ-04-2023